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明电舍开发出新的柔性阻隔膜低成本工艺 可在低温30°C下进行

小C君 CINNO 2018-08-05

日本设备厂商明电舍公司(MeidenshaCorporation)宣布开发出一种新的阻隔膜蒸馏技术,用于可弯曲显示屏和电子产品。与目前基于等离子的工艺技术(通常在100-150℃下进行)相比,新工艺技术可以在较低温度(30℃)下进行,因此能够显著降低能源成本。

该新工艺技术使用100%臭氧环境。明电舍与日本产业技术综合研究所AIST(NationalInstitute of Advanced Industrial Science and Technology)合作开发了一种能持续提供纯臭氧的设备。这项技术今年早些时候获得了专利授权。

明电舍解释说,纯净的臭氧环境在生产纳米量级厚度的薄膜方面非常有效。因为可以使单台机器执行薄膜沉积过程中的多项任务,比如增强表面亲水性和除去制造过程中产生的有机材料,新的工艺技术在降低能源成本的同时也缩短了制造工艺。

关于株式会社明电舍:

日本明电舍是日本五大重型电器制造厂家之一,创立于1897年(明治30年),公司总部设在日本东京品川大崎,注册资本170.7亿日元(约合人民币11亿人民币),在东京证券交易所一部市场上市,属住友集团。从事能源、环保、信息、通信、产业系统、机电设备等领域的制造和销售。明电舍公司职员8000余名,在日本国内外共设有39家分公司,其中中国6家。

来源:OLED-info

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