全球最大半导体设备厂商AMAT加快EUV Blank mask开发
文 | 小C君 · 编译 | Nina
来源 ：Etnews
CINNO Research 产业资讯，全球最大半导体设备企业Applied Materials（AMAT）将提速进行EUV Blank mask开发。EUV Blank mask是随着次世代半导体制程EUV曝光方式走红后新生的事业。作为全球第一的半导体设备厂商AMAT持续寻求新的成长动能，而韩国本土企业对相关材料的进展却缓不济急。
7月14日产业资讯，全球第一大半导体厂商，也是市占率高达20%的公司AMAT正在进行EUV Blank mask开发。Blank mask是指半导体曝光制程所用的未绘制电路Pattern状态的光罩。曝光制程是提前将半导体电绘制到光罩之后进行光反射或透射反复印制在晶圆的过程。类似于是画底图，为控制光源绘制电路，光罩式必不可少的核心。
一般来说是先制造出空白光罩即Blank mask之后再对其进行pattern绘制。而作为次世代半导体制程的EUV是容易被气体、液体、固体所吸收的光源，Blank mask的制作也是非常特殊。
一般的曝光制程基本采用ArF光源，以便光源透射。但EUV光罩是通过叠加80层左右的Mo（钼）和Si（硅）以反射EUV光源。所以业界认为EUV Blank mask是一种新事业领域。
通过光源绘制电路的曝光制程 （图片来源：etnews）
业界人士表示：AMAT着手Blank mask已有3年时间，主要是在新加坡主导进行开发。公司认为有利于利用原设备，才会选择Blank mask作为新事业开拓。公司为了尽早实现技术量产，也在和韩国光罩厂商进行协作。
但业界评论，量产或仍需时间。业界专家认为产品量产一般都要耗时10~20年，研发应该还需时间。而即使量产之后，是否能抓住客户也是一个难题。Blank mask基本已被日本HOYA、AGC Glass独供到三星和英特尔，EUV产业链本身也是几乎被HOYA在主导。
业界认为，哪怕技术发展成功也将难超越日本。当然，随着EUV时代的到来，也会有很多Blank mask的需求，AMAT依然还有胜算。
AMAT公司对外表示：公司已在进行研发，但暂无法告知具体内容。
对AMAT着手EUV Blank mask，韩媒评论：连AMAT这种全球第一的企业都不遗余力的进行研发以应对新EUV技术。但国内对此的本土化却是缓不济急。韩国中小企业虽有进行EUV检查设备、Pellicle、光罩等开发，但相较日本依然落后。甚至也有人质疑若日本将出口限制名单中增加Blank mask时，问题将会更加险峻。若韩国产业链企业能积极协作以确保本土技术能力，亡羊补牢，为时不晚。
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