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LGD｜联手延世大学开发出柔性透明光罩技术，可应用于LCD/OLED制程
文 | 小C君 · 编译 | Nina
来源 ：Inews24
CINNO Research 产业资讯，LG显示（以下LGD）通过产学合作孵化课题支援，联手延世大学Shim Uyeong（新材料工学科）教授团队，开发出革新性新面板技术。研发成果刊登于国际学术期刊Nature Communications。
根据韩媒inews24报道，研究团队利用柔性透明的新型Photo光罩实现了超精细Pattern，是一种全新的光刻（Photolithography）技术。此技术可应用至LCD和OLED制程。
光刻（Photolithography）技术是指半导体和面板制程中，将光刻胶（Photo resist）感光液薄涂于晶圆或玻璃上，然后将绘制Pattern的光罩置于其上，通过照光形成电路的技术。而此电路的成型，主要取决于称之为Photo mask的核心部件。
研究团队为了克服传统光罩的硬性特征，开发出柔性、透明的新光罩制程，利用原有曝光设备实现了100分之1水平的数十纳米单位超精细Pattern。
超精细Pattern绘制出的电路是面板实现超高像素不可或缺的关键。而柔性材质的光罩，还可应用于曲面基板，将有助于多种形态的面板生产。
论文的共同作者LGD Jang Giseok博士表示：本次开发出的新光刻技术是一种可以为未来面板技术带来巨大贡献的种子（Seeds）技术。
LGD是从2015年起进行面板产业发展‘LGD-延世大学孵化器’项目。是一种企业和高校共同搜集面板技术和产品相关的新概念，并从产业化角度进行企划、研发、验证的项目。
延世大学Shim Uyeong教授认为：此研发成果的主要意义在于，研发出可以克服光折射限制的光刻技术，除了平面以外，也可应用至曲面基板，期待未来可以应用到多样化形态的元器件制程。
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