芯片产业的未来:先进封装成为延续摩尔定律的关键技术之一
除了先进制程之外,先进封装已成为延续摩尔定律的关键技术,像是2.5D、3D 和Chiplets 等技术在近年来成为半导体产业的热门议题。究竟,先进封装是如何在延续摩尔定律上扮演关键角色?而2.5D、3D 和Chiplets 等封装技术又有何特点?
人工智能(AI)、车联网、5G 等应用相继兴起,且皆须使用到高速运算、高速传输、低延迟、低耗能的先进功能芯片;然而,随着运算需求呈倍数成长,究竟要如何延续摩尔定律,成为半导体产业的一大挑战。
芯片微缩愈加困难,异构整合由此而生
2.5D 封装有效降低芯片生产成本
过往要将芯片整合在一起,大多使用系统单封装(System in a Package,SiP)技术,像是PiP(Package in Package)封装、PoP(Package on Package)封装等。然而,随着智能手机、AIoT 等应用,不仅需要更高的性能,还要保持小体积、低功耗,在这样的情况下,必须想办法将更多的芯片堆积起来使体积再缩小,因此,目前封装技术除了原有的SiP 之外,也纷纷朝向立体封装技术发展。
立体封装概略来说,意即直接使用硅晶圆制作的「硅中介板」(Silicon interposer),而不使用以往塑胶制作的「导线载板」,将数个功能不同的芯片,直接封装成一个具更高效能的芯片。换言之,就是朝着芯片叠高的方式,在硅上面不断叠加硅芯片,改善制程成本及物理限制,让摩尔定律得以继续实现。
而立体封装较为人熟知的是2.5D 与3D 封装,这边先从2.5D 封装谈起。所谓的2.5D 封装,主要的概念是将处理器、记忆体或是其他的芯片,并列排在硅中介板(Silicon Interposer)上,先经由微凸块(Micro Bump)连结,让硅中介板之内金属线可连接不同芯片的电子讯号;接着再透过硅穿孔(TSV)来连结下方的金属凸块(Solder Bump),再经由导线载板连结外部金属球,实现芯片、芯片与封装基板之间更紧密的互连。
2.5D和3D封装是热门的立体封装技术。(Source:ANSYS)
目前为人所熟知的2.5D 封装技术,不外乎是台积电的CoWoS。CoWoS 技术概念,简单来说是先将半导体芯片(像是处理器、记忆体等),一同放在硅中介层上,再透过Chip on Wafer(CoW)的封装制程连接至底层基板上。换言之,也就是先将芯片通过Chip on Wafer(CoW)的封装制程连接至硅晶圆,再把CoW 芯片与基板连接,整合成CoWoS;利用这种封装模式,使得多颗芯片可以封装到一起,透过Si Interposer 互联,达到了封装体积小,功耗低,引脚少的效果。
台积电CoWos封装技术概念。(Source:台积电)
除了CoWos 外,扇出型晶圆级封装也可归为2.5D 封装的一种方式。扇出型晶圆级封装技术的原理,是从半导体裸晶的端点上,拉出需要的电路至重分布层(Redistribution Layer),进而形成封装。因此不需封装载板,不用打线(Wire)、凸块(Bump),能够降低30% 的生产成本,也让芯片更薄。同时也让芯片面积减少许多,也可取代成本较高的直通硅晶穿孔,达到透过封装技术整合不同元件功能的目标。
当然,立体封装技术不只有2.5D,还有3D 封装。那么,两者之间的差别究竟为何,而3D 封装又有半导体业者正在采用?
相较于2.5D 封装,3D 封装的原理是在芯片制作电晶体(CMOS)结构,并且直接使用硅穿孔来连结上下不同芯片的电子讯号,以直接将记忆体或其他芯片垂直堆叠在上面。此项封装最大的技术挑战便是,要在芯片内直接制作硅穿孔困难度极高,不过,由于高效能运算、人工智能等应用兴起,加上TSV 技术愈来愈成熟,可以看到越来越多的CPU、GPU 和记忆体开始采用3D 封装。
3D封装是直接将芯片堆叠起来。(Source:英特尔)
台积电、英特尔积极发展3D 封装技术
在3D 封装上,英特尔(Intel)和台积电都有各自的技术。英特尔采用的是「Foveros」的3D 封装技术,使用异构堆叠逻辑处理运算,可以把各个逻辑芯片堆栈一起。也就是说,首度把芯片堆叠从传统的被动硅中介层与堆叠记忆体,扩展到高效能逻辑产品,如CPU、绘图与AI 处理器等。以往堆叠仅用于记忆体,现在采用异构堆叠于堆叠以往仅用于记忆体,现在采用异构堆叠,让记忆体及运算芯片能以不同组合堆叠。
另外,英特尔还研发3 项全新技术,分别为Co-EMIB、ODI 和MDIO。Co-EMIB 能连接更高的运算性能和能力,并能够让两个或多个Foveros 元件互连,设计人员还能够以非常高的频宽和非常低的功耗连接模拟器、记忆体和其他模组。ODI 技术则为封装中小芯片之间的全方位互连通讯提供了更大的灵活性。顶部芯片可以像EMIB 技术一样与其他小芯片进行通讯,同时还可以像Foveros 技术一样,通过硅通孔(TSV)与下面的底部裸片进行垂直通讯。
英特尔Foveros技术概念。(Source:英特尔)
同时,该技术还利用大的垂直通孔直接从封装基板向顶部裸片供电,这种大通孔比传统的硅通孔大得多,其电阻更低,因而可提供更稳定的电力传输;并透过堆叠实现更高频宽和更低延迟。此一方法减少基底芯片中所需的硅通孔数量,为主动元件释放了更多的面积,优化裸片尺寸。
而台积电,则是提出「3D 多芯片与系统整合芯片」(SoIC)的整合方案。此项系统整合芯片解决方案将不同尺寸、制程技术,以及材料的已知良好裸晶直接堆叠在一起。
台积电提到,相较于传统使用微凸块的3D 积体电路解决方案,此一系统整合芯片的凸块密度与速度高出数倍,同时大幅减少功耗。此外,系统整合芯片是前段制程整合解决方案,在封装之前连结两个或更多的裸晶;因此,系统整合芯片组能够利用该公司的InFO 或CoWoS 的后端先进封装技术来进一步整合其他芯片,打造一个强大的「3D×3D」系统级解决方案。
此外,台积电亦推出3DFabric,将快速成长的3DIC 系统整合解决方案统合起来,提供更好的灵活性,透过稳固的芯片互连打造出强大的系统。藉由不同的选项进行前段芯片堆叠与后段封装,3DFabric 协助客户将多个逻辑芯片连结在一起,甚至串联高频宽记忆体(HBM)或异构小芯片,例如类比、输入/输出,以及射频模组。3DFabric 能够结合后段3D 与前段3D 技术的解决方案,并能与电晶体微缩互补,持续提升系统效能与功能性,缩小尺寸外观,并且加快产品上市时程。
在介绍完2.5D 和3D 之后,近来还有Chiplets 也是半导体产业热门的先进封装技术之一;最后,就来简单说明Chiplets 的特性和优势。
除了2.5D 和3D 封装之外,Chiplets 也是备受关注的技术之一。由于电子终端产品朝向高整合趋势发展,对于高效能芯片需求持续增加,但随着摩尔定律逐渐趋缓,在持续提升产品性能过程中,如果为了整合新功能芯片模组而增大芯片面积,将会面临成本提高和低良率问题。因此,Chiplets 成为半导体产业因摩尔定律面临瓶颈所衍生的技术替代方案。
Chiplets就像拼图一样,把小芯片组成大芯片
总而言之,过去的芯片效能都仰赖半导体制程的改进而提升,但随着元件尺寸越来越接近物理极限,芯片微缩难度越来越高,要保持小体积、高效能的芯片设计,半导体产业不仅持续发展先进制程,同时也朝芯片架构着手改进,让芯片从原先的单层,转向多层堆叠。也因如此,先进封装也成为改善摩尔定律的关键推手之一,在半导体产业中引领风骚。
来源:半导体行业观察