苏州印象研发升级高精度光刻制版设备
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光刻机(Mask Aligner)有很多种类,通常是用于光刻半导体电子线路掩模,刻蚀半导体集成电路,目前最先进的光刻机其分辨力高达几个纳米量级。本文所述的光刻制版设备不同于半导体用光刻机,光刻制版设备主要用于在光刻胶表面光刻微纳浮雕结构,用以产生衍射色彩、全息及3D或动态显示效果,通常用于印刷包装、防伪和装饰行业,是一种微纳结构转印模具光刻制造设备,线宽精度通常与见光波长相当。目前用于光刻制版设备的种类比较多,常用的光刻机种类有双光束点阵干涉光刻机;投影成像光刻机;单光束(或多光束)直写光刻机。这三大类型的光刻机各有不同的光刻优势和表现能力(关注“苏州印象”微信公众号,我们会有详细介绍)。苏州印象通过自主设计开发的光刻设备生产出众多独特的光学防伪产品,已广泛用于国家级证件证卡安全识别领域,并为众多国际国内体育赛事提供了入场证件安保服务。
本次设备升级主要特征如下:
1、光刻平台设计升级为高精度气浮光学平台,采用国际顶级核心配件,清华科研团队搭建,重复定位精度达到200nm。
2、运动控制采用集成度更高、接口更丰富的ACS控制卡,和LCM激光控制模块,迎合了当今主流高精度要求的运动控制方式。
3、DOVID衍射光变图像是国际流行的光刻制版效果,在证卡票签防伪应用多因为尺寸面积小,因而普遍采用256角度细分即满足要求,但是在包装和装饰应用领域往往需要更大的单元尺寸变化,比如100mm以上直径的连续放射或扩散很容易看到跳变的台阶,本次升级细分至6×256级角度变化,可满足于更大节距光柱的光刻制版,DOVID图形变化更加细腻。
4、光刻软件设计控制升级,新增了矢量光刻工作模式,并且能够和非矢量逐行点阵光刻嵌套使用,实现了浅纹矢量线条光刻、转角跟随(光栅随线条弧度旋转,限浅纹),深纹矢量光刻等全新功能。
此次高精度光刻机升级将进一步提高苏州印象在光刻制版核心科技的竞争力,新设备的投入使用,必将带来更具有视觉特色,更具防伪特色的微纳结构色光学产品来服务我们的客户,进一步推进“做微纳光学领域更具价值的服务供应商” 企业愿景。
关于印象
其资质及荣誉:
ISO9001质量管理体系认证
ISO27001信息安全管理体系认证
GB/T29490知识产权体系认证系
华为合格供应商认证
国家防伪产品技术认证
国际全息制造家协会(IHMA)会员
江苏省高新技术企业
连续5年获得防伪行业的“蓝盾杯”奖,
“结构色无墨印品通用技术规范”团体标准制定者(已正式颁布)
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