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原研哉:美即面膜品牌形象

2015-05-17 最设计

今年早些时候,著名的面膜品牌——美即(MG)启用了全新标志,新标志由日本设计大师、武藏野美术大学教授、无印良品艺术总监原研哉先生操刀设计。据悉,美即将在5月18日的上海美博会上举行新品牌发布会,原研哉先生也将出席。




美即成立于2003年,是美即控股国际有限公司旗下著名的面膜品牌。MG美即面膜在国内首创单片式销售,通过屈臣氏等渠道,逐渐成长为国内面膜行业排名第一的品牌,受到众多女士的喜爱。2014年4月,欧莱雅集团以6.36亿欧元收购美即控股。




美即官网:www.mgmask.cn

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