预告 | 吴汉明院士“科创大讲堂”开讲！为您揭开集成电路制造的神秘面纱

弘扬科学家精神

涵养家国情怀

肩负科技创新重任

浙江大学杭州国际科创中心

持续开展

“科创大讲堂”品牌系列讲座！

活动开展以来科创中心已经陆续邀请杨德仁院士、朱利中院士做专题分享，讲述科技创新之路上的点点滴滴，积极推动有组织科研、引育高水平人才、推进科技成果转化等方面的讨论。

明天“科创大讲堂”又将和大家见面啦！本次讲座我们邀请到的是浙江大学杭州国际科创中心领域首席科学家、浙江大学微纳电子学院院长吴汉明院士！他将围绕“集成电路芯片制造中等离子体科学的应用”的主题带来分享。

吴汉明院士是微电子技术（集成电路制造）专家，现任浙江大学微纳电子学院院长，在浙大杭州科创中心建设区块牵头建设浙江省集成电路创新平台。曾任中芯国际集成电路制造有限公司技术研发副总裁。他长期工作在我国集成电路芯片产业并做出突出贡献，曾主持、参加了包括国家重大专项在内的0.13微米至14纳米七代芯片大生产工艺技术研发，攻克了包括刻蚀等一系列关键工艺难点，与世界先进水平差距明显缩小。

吴汉明院士用理论模型支持我国首台大生产等离子体刻蚀机研发。创建了设计IP核技术公共平台，支持芯片制造产业链协同发展。建立的非平衡态低温等离子体混合模型/整体模型作为教案被世界著名大学教科书采用。作为主要成员，三次获国家科技二等奖，多次获省部科技奖。2019年当选中国工程院院士。

这一次讲座，吴汉明院士又会带来什么集成电路制造领域的“干货”呢？明天十点，不见不散！

文字：吴瑶瑶

本文编辑：孔晓睿

校对：晨曦

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