打破美国垄断，华科团队填补国内空白，强势助力芯片制造

“OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”

近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在宇微光学软件有限公司实现成果转化和产业化，填补了国内空白。湖北卫视对此进行了报道。

光刻成像原理图

刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

目前，全球OPC工具软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。

刘世元教授

刘世元是华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任，同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从华中理工大学前校长、著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。

2002年，从英国访学归国后不久，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电子装备有限公司(SMEE)，承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务，为总体组成员、控制学科负责人。通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。

计算光刻OPC原理图

2005年，从上海回到学校之后，刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，立足先进光刻与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。2010年初，他明确选定了两个主攻研究方向：面向IC纳米制造的计算光刻与计算测量。十多年来，他和团队在该领域的基础理论与技术创新上做了许多工作，相继获得国内外学术界和产业界同行的重视和认可。

“2013年，我第一次赴日本京都参加第6届国际光谱椭偏学大会，当时还只能当听众；到了2016年，在德国柏林召开的第7届国际光谱椭偏学大会上，我应邀做了大会主题报告，成为该学术会议创办23年来第一位做大会主题报告的华人学者。”刘世元回忆。

武汉宇微光学软件有限公司

2020年10月，刘世元成立宇微光学公司。目前，团队除了2名行政人员外，全部为研发人员，他们来自中国、美国、俄罗斯等不同国家，在相关领域均为顶尖技术专家，30%以上成员拥有博士学位，具有丰富的行业经验。

“创业与科研不同，要面向市场，在短期内形成产品，并获得客户和投资人的认可，面临众多风险和不确定性。”刘世元表示，之所以走出舒适区，走上创业路，是希望自己的研究成果能够最终转化成产品，为国家和社会发展作贡献。

不久前，宇微光学宣布完成Pre-A轮数千万元融资。本轮融资完成后，宇微光学将进一步加强各核心模块的集成化与软件产品化，同时对各项软件参数进行标定、测试与验证。

下一步，宇微光学将加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造厂商市场，力争成为全球芯片产业链中重要的一环。

来源：中国光谷