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——研讯社

盘后，据《科创板日报》报道，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在官网发布声明称，荷兰政府今日公布了浸润式DUV光刻机出口新规，称次先进DUV出口需获得荷兰政府许可，自9月7日起生效。

先进光刻机主要是NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻机，这类光刻机单次曝光能实现28nm的制程，四重曝光就能实现7-5nm的制程，但是这类光刻机早就在美国跟荷兰的管制名单里了，早就买不到了。

次先进光刻机主要是NXT:1970i和1980i DUV光刻机，这类性能低一些，单次曝光实现不了28nm，也很难通过多重曝光实现7nm，这类光刻机之前在美国管制名单里，但是不在荷兰政府的管制名单里。

现在荷兰的新规就是将管制口径调整到跟美国政府一致，将次先进光刻机也纳入管制，所以将导致我国进口次先进光刻机进一步受限。

包括还有上周的事件，8月29日据彭博社报道，可能不会在今年年底到期时更新某些ASML在中国服务和提供备件的许可证。并且随后就有环球时报等官媒报道，荷兰首相表示，荷兰政府将在决定进一步收紧对华出口规则时，考虑到阿斯麦的经济利益。

上周的事件是影响存量的维护，今天的事件是进一步限制新光刻机的获得，总体还是在持续给我国半导体产业链施加限制，并且可能还释放了一个信号，荷兰政府近期在加紧跟随美国政府的脚步。

今天早上，据彭博社报道，美国商务部工业和安全局在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则（IFR），升级了对量子计算、先进半导体制造、GAAFET等相关技术的出口管制。（这个行动有为期60天的公众评论期，之后官方将发布最终规定）

9月中旬到10月，美国将进入正式的三轮总统辩论阶段，11月投票出结果。随着逐渐进入大选期，美国那边的摩擦动作会越来越多。

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