光刻机巨头开始慌了，中国造不成光刻机，但是要造一个光刻工厂！
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荷兰光刻机巨头的恐慌
其CEO彼得·温宁克（Peter Wennink）就在接受采访时直言：“完全孤立中国是没有希望的。如果我们不分享技术，他们就会自己去研究。”
“中国有14亿人，其中很多人都很聪明。他们会提出我们还没想到的解决方案。你在迫使他们变得非常创新。”
温宁克认为，中国有着众多聪明的人才，即使存在专利限制，他们也会想到别的解决方案，西方试图通过禁止技术移民和出口管制等方式来限制中国的科技发展、孤立中国，最后只会使中国加强自主研发，削弱西方自己。
要想知道他们为什么慌了，我们还得把目光投回国内。
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造不成光刻机，就造一个光刻工厂！
这篇论文详细描述了实现SSMB-EUV的具体方法，包括高重频微波电子枪产生电子束、纵向拉伸电子束以实现准连续束团、储存电子束并保持微聚束状态等步骤。
最终，这个微聚束在辐射段被进一步压缩，产生波长为13.5纳米的强相干辐射。
它采用高能加速器对电子进行加速，并让这些电子穿过交替变化的磁场，从而产生高频率、短波长的电磁波，包括可见光和X射线。
通过将电子聚集成纳米级别的"电子团"，使得电子团中的每个电子都以同相位发出电磁波，从而实现了高度相干的光源。
SSMB-EUV技术为光刻机领域带来了一种全新的思路。
因为目前中国要想掌握光刻机的所有技术，存在一个绕不过去的专利，那就是光源小型化，小型化后的光源才能塞进光刻机里进行蚀刻等操作。
但是，既然我们不能实现小型化，那为什么不干脆做一个大光源呢？
SSMB-EUV正是采用了“巨大化”的环形加速器作为光源，为多台光刻机提供工作光源。这意味着我们虽然造不出来小型的光刻机，但是却可以使用SSBM－EUV技术，直接驱动很多台光刻机，建立超大规模的“光刻工厂”！
对此有一个很好的比喻，如果把光刻看成打印，荷兰就是在卖打印机，但是打印机有些精密中国不太好造，那我干脆开个印刷厂，动不了就动不了，你就说能不能打印吧，咱也不卖印刷厂，满足需求就行，不就是搞个基建吗。
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弯道超车击败行业巨头
这正是弯道超车的极致理解，荷兰的光刻机为了销售发货，必须做到小型化。
但我们没有这个需求，我们完全可以大型化，即使一台光刻机占地几百上千平米也没有关系，反正我们地方多的是。
假如这项技术未来能成功落实，一个大型光源带动很多台光刻机的工厂建成后，芯片的良率和产量就不是什么大问题了。
在我国一系列的科技突破下，荷兰的ASML公司和其他光刻机制造商正在感受到来自中国光刻机行业的压力。中国不再满足于依赖进口，而是在努力实现自主研发。
尽管目前中国的光刻机技术还没有完全赶超国际巨头，但进展速度和决心令人印象深刻，传统光刻机巨头的市场正在面临被我们吞没的压力，所以才站出来表示不应该孤立中国了。
不只是光刻机，随着华为mate60等一系列产品的问世，我们在半导体领域的发展，远比所有人想象的都快。
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