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新一代激光直写技术的研究与进展
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激光直写技术是一种无需掩模、适用面广、性价比高的微纳米加工手段,目前已经广泛应用于微机电系统、掩模板、微流控、微纳光学器件、超材料等微纳米制造领域。随着纳米技术的飞速发展,器件和结构变得越来越小,面对的场景也越来越复杂多样。为了满足这些新的发展需求,新一代激光直写系统采用了激光与物质非线性相互作用的新原理,在技术上实现了两个突破(如图1所示):(1)突破了衍射极限的限制,实现了超衍射加工;(2)打破了受体材料仅能使用有机光刻胶的限制,实现了在各种材料也包括有机光刻胶上的激光直写。这些突破赋予了激光直写技术许多新的内涵,极大地拓宽了激光直写的应用场景。
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https://www.researchgate.net/publication/354500319_Progresses_on_New_Generation_Laser_Direct_Writing_Technique点击下方知社人才广场,查看最新学术招聘
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