ASML警告：中国公司销售疑似侵害其专利产品！

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据彭博社2月9日消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在2月9日发布的最新年度报告中提到：“2021年初，我们根据有关报道了解到，XTAL的关联公司东方晶源微电子，正在中国积极销售可能侵犯ASML知识产权的产品。”

报道称，ASML已经要求部分客户暂停与XTAL中国公司东方晶源微电子的业务往来。ASML表示，正在“密切关注这一情况，并准备在适当的时候采取法律行动”。

（图源：彭博社）

ASML曾获赔57亿元

众所周知，ASML当前为世界最大的光刻机制造商，曾制造了全球独有的OLED面板刻蚀机。而XTAL成立于2014年，是ASML的主要竞争对手。但在XTAL公司成立一年后，就抢占ASML的多个大客户，包括电子巨头三星公司。

2019年5月4日，ASML发表声明指出，加州圣克拉拉市法院判决XTAL窃取ASML商业机密一案，ASML获得胜诉。加州高等法院判给ASML 8.45亿美元（约合57.4亿人民币）赔偿及临时禁制令，并接手已破产的XTAL的大部分知识产权。

据了解，XTAL败诉的原因是诱使前雇员违反与ASML的合约窃取商业秘密。2018年11月28日，美国加州圣克拉拉联邦法院、陪审团做出本案的初步裁决，裁定XTAL盗窃知识产权的行为属于恶意，ASML对XTAL提出的所有五项罪名成立，可依法获得惩罚性赔偿。

然而，初步裁决的一个月后，在硅谷注册的XTAL曾试图通过在初审法院作出最终判决之前申请破产来避免判决，因此陪审团在2018年11月判决和2019年5月3日的最终判决之间出现延迟。

在破产案进程中，XTAL计划出售其知识产权，而ASML在审判中表明该知识产权已被ASML的商业机密所覆盖。破产法院批准了ASML的动议并将案件送回审判法庭，以便它可以进入最终判决。

而由于XTAL处于破产状态，ASML在获得终审胜诉后无法获得其8.45美元的所有赔偿金。但根据和解安排，ASML最终将通过破产程序获得XTAL的大部分知识产权和资产所有权。同时ASML被授予可联系XTAL的实际或潜在客户。

另外，根据ASML取得的禁制令，XTAL不得对ASML所述包含ASML知识产权的软件产品进行开发活动。ASML表示，该禁制令也禁止XTAL继续在与ASML表达式微影产品Brion相同的业务领域运营。

ASML曾于2019年4月透露，前雇员将其商业机密告知XTAL。XTAL拥有韩国和中国提供的注资，并建立了向ASML现有“最大的韩国客户”销售竞争产品的机会。此前，三星曾于2016年获得XTAL的30%股权。

（图源：观察者网）

ASML今年将交付60套EUV光刻机

随着技术节点的缩小，EUV技术被广泛应用于硅晶圆制作。自1994年 EUV光刻技术工业化以来，ASML 17年间在EUV研发上投入了超过60亿欧元，时至今日，ASML成为了EUV领域的绝对领导者。ASML预计2022年交付约60套EUV光刻机，预计到2025年，EUV光刻机出货量将增加1.5倍以上。

2月9日，ASML发布了2021年度报告。报告显示其2021年度营收186亿欧元，毛利率52.7%，研发支出25亿欧元，净利润达59亿欧元。目前，ASML主要出产的光刻机包括EUV 42、DUV-ArFi 81、ArFdry 22、KrF 131、i-line 33，其中，EUV光刻机的销售额2021财年第四季度销售额就达到63亿欧元，整个2021财年里，EUV光刻机的销售额对总销售额的贡献率达到46%。例如，台积电现阶段应用的是基于 0.33 数值孔径的 EUV 光刻机，可以生产 5nm芯片。

（图源：ASML财报）

ASML表示该公司已经对High-NA光刻机进行了大量投资，High-NA光刻机是EUV光刻机的进一步优化，该公司的目标是使其能够实现3nm芯片的生产。目前，该公司已经收到五个EXE:5000型号（High-NA产品型号）的订单，各光学掩模、光刻胶供应商之间正在密切协作，预计在2023年完成出货。2024年，AMSL还将推出EXE：5200型号，这是该公司下一代预计大批量生产的High-NA光刻机。

此外，ASML称，2022年至2026年，该公司净销售额同比增长将达到20%左右，这部分的增长将主要通过High-NA光刻机的EUV设备销售来实现，到2025年，High-NA光刻机将被大规模用于DRAM芯片（Dynamic Random Access Memory）的生产。

不过，High-NA光刻机在孔径敏感度、狭窄的进程窗口等方面还面临挑战，ASML能否实现大规模生产High-NA光刻机的目标仍是未知数。

国产设备商加速自主研发

当前，领先的逻辑半导体及存储制造商，正在由DUV向EUV工艺过渡。与此同时，各大半导体厂商均在积极扩产，台积电预计2022年资本开支目标为400-440亿美元，在大规模扩产（大陆南京28nm厂扩建、美国亚利桑那5nm厂、日本熊本22/28nm厂、中国台湾高雄7/28nm厂、中国台湾竹科宝山3nm厂等）；英特尔2021年宣布将斥资200亿美元在亚利桑那州新建两个芯片工厂；韩联社此前报道，韩国政府已批准该国第二大芯片厂SK海力士的120万亿韩元（约合1060亿美元）投资计划。这些都将进一步推动对ASML光刻机等设备需求。

而由于我国半导体设备产业链建设仍处于起步阶段，国产半导体设备大量核心部件仍依赖于进口，供应商供货状态存在不稳定因素。2018年5月，中芯国际向ASML下单了一台价值1.2亿美元的EUV光刻机，预计2019年底交付，2020年进行安装。

几乎同一时间，当时的特朗普政府向荷兰政府施压，禁止向中国交付这台EUV光刻机，否则美国政府将断供该光刻机上所必须的美国造设备。这台机器价值1.2亿美元、重达180吨的设备背后，90%的部件均来自外部厂商，美国和欧洲等企业更是其中代表。2019年11月，ASML宣布，荷兰政府不再续签EUV相关出口许可。ASML至今仍未获得出口许可证。

在ASML的CEO温彼得看来，美国的出口管制措施可能会适得其反：“出口管制将加快中国自主研发，15年时间里他们将做出所有的东西。”

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本文由芯师爷整理自彭博社、观察者网、智东西、华尔街日报等，内容仅供交流学习之用，如有任何疑问，敬请与我们联系[e-mail]。

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