北科大王东瑞教授课题组《ACS AMI》:墨水直写打印线宽50 μm、超高电导率的银纳米线图案化电极
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以纳米材料为原材料,通过“自下而上”的方式构筑多层级结构有序的结构材料、功能器件,对于变革材料、器件的传统制造模式有着深远的影响。在微电子制造领域,传统的丝网印刷、光刻等技术在加工柔性电子器件方面暴露出步骤繁琐、耗时久、成本高、一体化制造难等不足。墨水直写(DIW)是一种简单、独特的增材制造技术,可在室温下将多种墨水挤出并沉积到任意几何形状的基材上,具有低成本、快速、可按需定制等特点。然而,将有着大长径比的一维金属纳米线通过DIW技术制成具有高分辨率、高电导率的电极仍存在巨大的挑战。
原文链接:
https://doi.org/10.1021/acsami.2c22885
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