中国还需要EUV光刻机吗？中芯国际：暂不需要

消息来源：驱动之家

EUV（极紫外光刻）光刻机是7nm以下节点制程工艺必备的，但目前来说国内还没有使用EUV设备。

日前在回应投资者提问时，中芯国际董事长兼执行董事周子学表示，关于设备采购公司依据相关商业协议进行，不对单一设备的采购情况进行评论。公司目前量产和主要在研项目暂不需用到EUV光刻机。

光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，它决定了芯片的工艺水平，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平，10nm工艺之后难度越来越大，光刻机也需要升级到EUV级别。

台积电在第一代7nm工艺上没有上EUV光刻机，但在7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了，理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片，但是成本、良率都是个问题，无法拒绝EUV光刻机。

目前EUV光刻机只有荷兰ASML公司才能生产，单台售价超过1.2亿欧元，约合10亿元一台。之前的报道显示，中芯国际已经订购了一台EUV光刻机用于先进工艺研发，本应该在2019年交付，不过ASML公司一直没被批准出售。

此外，高盛还预测了中芯国际的技术升级路线，认为中芯国际2022年可升级到7nm工艺，2024年下半年升级到5nm工艺，2025年毛利率将提升到30%以上。

在14nm工艺之后，中芯国际还有N+1、N+2代工艺，其中N+1工艺相比于14nm性能提升20％、功耗降低57％、逻辑面积缩小63％，SoC面积缩小55％，之后的N+2工艺性能和成本都更高一些，这两个工艺都不需要EUV光刻机。

N+1工艺在去年Q4季度就完成了流片，目前正处于客户产品验证阶段，预计Q4季度量产。

-END-