美国施压，中芯国际梦断7纳米，如何自救？

继本月初将中芯国际（688981.SH）认定为“涉军企业”后，12月18日，美国商务部再次加大制裁，将其列入实体名单（“Entity List”）。

被纳入“实体名单”，意味着未经美国商务部的许可，美国公司无法向中芯国际提供技术与产品。

美国商务部在禁令中还特别指出，10纳米及以下半导体芯片生产所需的特定技术与设备将被直接拒绝出口，以防止此类关键的技术用于中国的军民融合。

中芯国际是中国大陆最大的芯片代工企业，也是中国大陆目前唯一正在研发7纳米先进制造工艺的代工厂，美国制裁对其现有业务和未来研发造成什么影响最令人关注。

部分中芯国际现有客户不太焦虑。理由主要是两方面：

一是由于美国商务部明确限制的是10纳米以下的技术和设备，意味着10纳米以上半导体制造所需设备和技术，美国公司还有机会通过申请许可证的模式继续向中芯国际供货。

其二，美国芯片公司高通也有相当一部分芯片由中芯国际代工。据他估计，高通电源管理芯片60%都由中芯国际代工，如果中芯国际就此停摆，高通最新的5纳米手机芯片出货短期也将受到影响，“相信高通也会积极促进许可证的发放。”他说。

美国商务部这一制裁最直接影响中芯国际的先进制程研发。目前，由于EUV光刻机（极紫外光刻机）迟迟无法到位以及没有合作的大设计厂商，难以推进。

虽然EUV光刻机的生产商为荷兰ASML公司，但光刻机中的零部件和技术大都来自美国，例如为光刻机提供曝光光源设备的西盟科技、计算光刻技术的睿初科技以及微激光系统的硅谷光刻集团。这些涉及到10纳米以下的技术和设备，将被拒绝出口。

中国如何自救？

不用EUV光刻机可以做出7纳米的芯片吗？

一位在芯片代工行业有将近30年经验的研发人员告诉记者，如果7纳米不用EUV光刻机，性能上不能和台积电7纳米进阶版相比，只能和台积电的7纳米的第一个版本（使用DUV光刻机版本）相提并论。并且，除了光刻机之外，涉及到10纳米以下技术与制造的机台、物料、零部件、EDA等，也等于卡死了。

除了设备层面，没有大设计厂商共同合作，先进制程等于没有被产品验证过。因为产品的设计会根据中芯国际的IP和器件性能去设计和验证，而国内能够承担先进制程的设计公司只有华为海思。其他设计公司很难有成本和能力承担先进制程研发。如今看来，这两个条件目前均不具备。

中芯国际尚未对美国禁令做出公开回应。

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巴黎雷欧

巴黎旅游文化协会、巴黎旅游评估机构、全球版

权交易机构、巴黎邮报、莱特CN……推荐艺术顾

问、评论家、法国旅游咨询专家。

Léo，即巴黎雷欧，早年出版过文集《在成长》，

近年出版有论著《跨国公司内部谈判》（法文版）

《人际关系十二讲》（英文版）《远东文化艺术》

（法文版）《巴黎雷欧艺术评论》（系列）《雷

欧带你认识法国》《雷欧带你认识巴黎》等。

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