Sun et al., Science, 2020, 368, 874–877.DOI:10.1126/science.aaz7440原文链接:https://science.sciencemag.org/content/368/6493/8743. 用于高性能电子器件的顺排、高密度半导体碳纳米管阵列单壁碳纳米管可以制造小于10 nm的集成电路,但这需要在晶片上可规模化地生产致密的电子纯半导体纳米管阵列。北京大学、湘潭大学彭练矛院士和张志勇教授团队开发了一种多重分散和分选工艺,可产生极高的半导体纯度和实现一种尺寸限制自对准(DLSA)工艺,用于在10 cm硅片上制备在每微米100到200个范围内,密度可调、排列良好的碳纳米管阵列。在碳纳米管阵列上制作的顶栅场效应晶体管(FET)显示出比具有类似栅长的商用硅金属氧化物-半导体FET更好的性能,特别在对于1 V电压下,其通态电流为1.3 mA μm-1,创记录的跨导为0.9 mA μm-1。同时,使用离子液体栅极,可保持每十年低于90 mV的低温阈下摆动。批量制备的顶栅五级环形振荡器的最大振荡频率大于8千兆赫兹。
Liu et al., Science, 2020, 368, 850–856 DOI:10.1126/science.aba5980原文链接:https://science.sciencemag.org/content/368/6493/850