ASML EUV光刻机出货将突破180台，High NA设备2025到来

半导体行业观察

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据thelec报道，到今年年底，荷兰ASML的EUV曝光设备预计将供货约180台。ASML的EUV设备产量预计将从2019年的22台增加到2020年的32台，2021年增加到42台，今年将超过50台。随着三星电子、台积电、英特尔等半导体大厂开始导入EUV设备，“EUV时代”正式开启。

特别是业界最感兴趣的High-NA EUV设备的初期版本，预计将于明年底推出，并于2025年底正式商用。EUV 相关的抗蚀剂、薄膜和掩模等材料的开发也有望正式启动。

近日在韩国首尔Posco Tower Yeoksam Event Hall举行的“2022 Semiconductor EUV Ecosystem Global Conference”上，业界专家提出了这样的展望。本次大会由韩国半导体产业协会主办，电子元器件专业媒体THE ELEC协助。

引入High NA EUV设备是半导体行业最大的话题之一。三星电子、SK 海力士、台积电和英特尔等大公司多年来一直在认真应用 EUV 工艺。当High NA EUV设备的早期版本在明年年底发布时，包括相关材料和零件在内的EUV生态系统有望正式开放。

韩国EUV最高权威汉阳大学材料科学与工程系教授Ahn Jin-ho教授表示，“High-NA EUV设备可应用于实际量产的时间为2025年底至2026年。”预计到2028年每年可生产20台。

直接使用 EUV 设备的三星电子和 SK 海力士也对High-NA EUV 设备的商业化非常感兴趣。“晶圆代工市场中的 3 纳米先进工艺市场规模将从今年的 12 亿美元增加到 2026 年的 242 亿美元，”三星电子晶圆代工业务部高级研究员 Byeong-seok Park 表示，“他强调说。

SK hynix PL, Koo Seon-yeong 将 EUV 应用于 DRAM 工艺的关键要素定义为“抗蚀剂 (PR)”。PL Seonyeong Koo 说：“必须开发一种在增加剂量（辐照）的同时不会显着降低产量（生产效率）并且具有均匀性的光刻胶。我们需要更加关注技术等。”

随着 EUV 市场的开放，半导体设备制造商正在积极开发相关设备。全球唯一的EUV曝光设备生产商ASML正在扩大其EUV设备产能。ASML Korea 总监 Lee Myung-gyu 表示，“与早期相比，EUV 设备现在已经非常稳定。AMAT Korea 总监 Kang Sang-gil 表示，“我们正在开发一种技术，可以最大限度地减少电路缺陷，同时减少 EUV 光照射量。”。

据报道，韩国材料企业S&S Tech因即将量产薄膜而备受瞩目。S&S Tech 执行董事 Seung Byung-hun 表示：“我们已成功将 EUV 薄膜的透射率提高到 90-92%。”我们将很快引进沉积设备。这可以看作是为量产做准备，当设备搭建好后，我们预计它会在2024年实现商业化。”

ASML 在竞相建设芯片工厂的过程中实现强劲增长

在上个月，ASML Holding NV 对公司未来给出了乐观的收入前景，理由是对其制造先进半导体的机器的强劲需求，并表示将回购 120 亿欧元（122 亿美元）的自有股票。

这家荷兰芯片生产设备供应商表示，半导体市场的增长和对更先进生产的需求将推动对其产品和服务的需求，到 2025 年年收入将高达 400 亿欧元。分析师平均估计为 32亿欧元。

ASML 对长期增长充满信心之际，其客户产品需求急剧下滑，导致许多客户控制在新厂房和设备上的支出。

这家荷兰公司表示，外包芯片制造领域日益激烈的竞争以及欧洲和美国培育国内生产的努力都促使该行业需要增加更多产能。

ASML 在当时的监管文件中表示，其回购计划将持续到 2025 年。公司将使用约 200 万股股票来支付员工计划，并取消剩余部分。

ASML 对未来的乐观情绪正在增长。去年，它曾预测到 2025 年销售额将在 240 亿欧元至 300 亿欧元之间。该目标现在为 300 亿欧元至 400 亿欧元，它在文件中表示。

它表示，到 2030 年，收入将进一步扩大至 600 亿欧元。

该公司表示：“虽然当前的宏观环境造成了近期的不确定性，但我们预计长期需求和产能将呈现健康增长。”

根据其不断增长的需求预测，该公司计划到 2025 年至 2026 年将其极紫外光刻机和 600 台深紫外光刻机的产量提高到 90 台。

ASML 的设备执行关键功能，将图案燃烧到沉积在硅晶圆上的材料中，这些材料构成了赋予芯片功能的电路。

尽管目前全球芯片行业正面临严重的低迷，但包括美国和日本在内的国家并没有放慢新工厂建设的步伐，为下一个繁荣周期做准备。

台积电甚至还在考虑在美国亚利桑那州正在建设的价值 120 亿美元的工厂旁边增加另一家先进工厂。

ASML 未能向中国出售其最先进的极紫外光刻机，因为荷兰政府拒绝向其颁发这样做的许可证，但它已经能够向该国出售其其他机器。

ASML 上个月在与投资者的电话会议上表示，美国新措施的总影响约为其积压订单的 5%。

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