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会议通知|材料表界面科学学术研讨会

蔻享学术 2021-04-26

The following article is from PHI与高德 Author PHI CHINA




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材料表界面科学学术研讨会




2021年4月23日





随着材料、能源、微电子、信息产业及环境领域等高新技术的迅猛发展,表面科学目前已经成为国际上最为活跃的学科之一,对于表面分析技术的需求也日益增多。X射线光电子能谱(XPS)是一种有效的表面分析技术,已经广泛应用于基础科研、先进材料研制、高精尖技术等领域,促进了材料学的研究与发展。为积极推动表面分析应用技术的发展,促进表面分析技术与其它学科的融合, 更好地结合表面分析技术解决问题,同时加强同行之间交流与合作,展示相关的新成就、新进展。


本次会议由常州大学材料科学与工程学院 & PHI CHINA主办,主题将涵盖材料、能源、电池等科技领域,以高端学术交流为重点,强调前沿探索,促进学科建设发展与科技创新。PHI CHINA在此诚邀国内外相关高校和科研院所的科研人员、科学领域的专家学者、技术人员进行技术研讨,共商合作,共谋发展。





会议日程






会务联系人:
张伟 PHI CHINA
电话:185 0008 4171
邮箱:william.zhang@coretechint.com

编辑:苏苗苗

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