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【直播】第六届国际先进光刻技术研讨会
会议名称:
第六届国际先进光刻技术研讨会
会议时间:
2022年10月21日 08:30
主办单位:
中国集成电路创新联盟
中国光学学会
中国电子学会
IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,研讨即将面临的技术挑战。
研讨会的发言者均为特邀自集成电路制造相关领域的国内外资深专家,代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛,涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。参会者分别来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校等。考虑到当前的实际情况,第六届国际先进光刻技术研讨会将于2022年10月21日-22日举办,并采用线上的方式,欢迎报名参会。
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编辑:黄琦
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