用芯片代工换手机份额，三星真能给华为开小灶？
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据观察者网消息，知名数码科技媒体“phoneArena”报道称，三星与华为正在尝试一项重磅合作——这家韩国巨头将为华为的5G设备制造先进芯片，作为交换，华为将让出部分全球智能手机市场份额给三星。
报道还给出了这笔交易行得通的背后利益逻辑，三星比华为更依赖手机业务，而对拥有60万5G基站合同的华为来说，电信业务比手机更为重要。
但问题是，三星要如何规避美国的出口禁令？
笔者在“phoneArena”官网找到了作者艾伦·弗里德曼在6月12日发布的这篇报道原文，发现里面提到，根据《亚洲时报》，三星开发了一条小型生产线，利用日本和欧洲芯片制造技术生产7nm芯片。
图/phoneArena
艾伦·弗里德曼没有交代三星和华为“重磅合作”的消息来源，而采用何种技术和设备生产华为7nm芯片的消息，来源于另一家媒体。这家媒体的消息来源出自何处，没有交代。
至此，整个“重磅合作”的消息链属于无根浮萍，可信度不高。
另外，从商业逻辑上看，“重磅合作”也难以落地。
先说华为用全球智能手机市场份额交换三星芯片代工，这根本就是无稽之谈。
报道中提到的“三星开发了一条小型生产线，利用日本和欧洲芯片制造技术生产7nm芯片”，那么，这一消息是否靠谱呢？
欧洲芯片制造技术不说，仅日本芯片制造技术，其中光刻机的重要玩家当属尼康株式会社，曾在浸液式光刻机面世之前，一直是压着巨头ASML打的，之后被ASML甩开，在EUV光刻机时代被ASML压着打。但瘦死的骆驼比马大，好比贾府虽然衰落，但大观园还不照样让刘姥姥看花了眼？
在尼康的官网上，其最先进的光刻机型号是NSR-S635E，和ASML的高端光刻机NXT2000i在很多关键指标上相同或相近：
ASML的NXT2000i光刻机（DUV光源，浸液式）分辨率为38纳米，光波长193纳米，NA1.35，套刻精度1.9纳米，产出量每小时275片晶圆。
尼康的NSR-S635E分辨率38纳米，光波长193纳米，NA1.35，套刻精度1.5纳米/2.1纳米，产出量每小时275片晶圆。
在DUV光源的浸液式光刻机领域，尼康和ASML基本上是平起平坐，是可以最高做到7nm工艺制程的（尼康官网说的最高5nm工艺制程，只能说是一种宣传话术，可信度不大，和真正的5nm有出入）。
图/尼康官网
考虑到日本光刻机超过90%的部件是自己生产，和ASML超过90%部件外包生产不同，基本上绕开了美国技术。
也就是说，仅从光刻机上，三星给华为开小灶，单独建一条7nm生产线是可行的。
但这就引出另一个问题，三星可以给华为开小灶，台积电为什么不能开？毕竟华为是台积电第二大客户，为保住华为的订单，台积电甚至花重金雇游说团，开个小灶算啥？
即使台积电不方便给华为开小灶，中芯国际总可以吧。
但是中芯国际、台积电没开小灶，三星却去开，不是说前两家公司想不到，而是根本就不靠谱。
前一阵子，说联发科可以卖华为芯片，结果联发科辟谣；说三星可以卖华为芯片，三星一直不作声；说台积电不砍华为订单，结果台积电在股东大会上说保证不了。
当然，笔者也希望自己被打脸，华为有芯片可用，但严厉的封禁下哪有漏洞可钻！
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