Leica EM RES102 离子减薄仪（常温）

一

设备简介 

离子减薄仪（常温）

Leica EM RES102

Leica EM RES102刻蚀仪具有减薄和清洗功能于一体，可对样品进行离子束减薄，清洁，截面切割，抛光，去除污染颗粒和表面不平，改善电镜观察通道衬度。配备多种样品台以适用于TEM，SEM和LM样品制备

二

厂家型号

● Leica公司  EM RES102

三

技术指标

● 样品台转速：0.6 ~ 10rpm连续可调；

● 平面摆动角度：最大360°，每步1°；

● 垂直摆动距离：±5mm，精度0.1mm；

● 离子束能量：0.8keV~10keV

四

主要应用

● 金属、陶瓷、复合材料、薄膜等各种材料的TEM样品的离子束减薄；

● SEM、EBSD样品表面清洁、抛光、衬度增强，可替代化学刻蚀作用

五

样品要求

● TEM样品直径为3mm，厚度小于50μm；

● SEM样品最大直径为25mm，高度低于11mm