Escalab Xi+ X射线光电子能谱仪(XPS)

一

设备简介 

X射线光电子能谱仪(XPS)

Escalab Xi+

XPS技术是目前应用极其广泛的一种材料表面分析手段，可提供测试深度小于10nm的材料表面的元素组成及化学态信息。不仅适用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，XPS在半导体、镀膜材料及涂层工艺控制、多层结构纳米功能材料开发等工业领域都有极其广泛的应用。季华实验室测试中心XPS设备配备了单色化X射线源、镁铝双阳极、ISS、REELS、UPS、AES、离子枪刻蚀功能部件；功能全面，有效助力于材料表面功能化的改性研究。

二

厂家型号

● 美国赛默飞Escalab Xi+

三

技术指标

● 单色化X射线源最优能量分辨率：半高宽≤0.43eV（Ag3d5/2）；

● 分析室真空度≤5.0×10-8Pa；

● ISS对于金样品能量分辨和灵敏度：15eV@25kcps/nA；            
● REELS对于银样品能量分辨和灵敏度：1000kcps@0.5eV；

● UPS对于银样品（Ag4d）能量分辨和灵敏度：1,000,000 cps@100meV；

● AES对于铜样品能量分辨和灵敏度：10keV/5nA时≤95nm；

● XPI可实现空间分辨率≤1μm的化学态成像；

● 自动化五轴样品台

四

主要应用

● 常规表面元素及化学态定性及半定量分析；

● 5nm深度范围内角分辨及500nm深度范围内离子刻蚀深度剖析；

● H元素相对含量研究；

● 表面单原子层元素定性分析；

● 线扫描、面扫描等面内均匀性分析；

● 6μm微区回溯成谱的成像XPS分析