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Talos F200X G2 透射电子显微镜

设备简介 

透射电子显微镜

Talos F200X G2

Talos F200X G2 透射电子显微镜是通用型微观结构分析的重要仪器之一;有较高的空间分辨率和元素分析能力,同时可满足多种使用途径,易用性强;融合了STEM成像功能与EDS能谱检测功能及基于成分测绘的三维化学表征功能,可在2D和3D中揭示纳米级细节。该仪器可广泛应用于高分子材料、陶瓷、纳米材料、生物学、医学、化学、物理学、地质学、金属、半导体材料等领域的科研,是研究超显微结构与性能关系所必不可缺少的大型精密仪器。

厂家型号

● 赛默飞世尔科技 Talos F200X G2

技术指标

● 稳定高亮度电子枪 (X-FEG);

● 加速电压:20kV-200kV;加速电压连续可调;

● 束流 /束斑尺寸:≥1.5nA@1nm

   ≥0.4nA@0.31nm (all@200kV);

● 分辨率:

   点分辨率0.25nm@200kV,

   信息分辨率0.12nm@200kV,

   STEM 分辨率0.16nm@200kV ;

● 完全集成的快速相机:

   Ceta 16M 像素 CMOS 相机可提供大视场(4096×4096)

主要附件

● 新型STEM探测器组合系统:

16分割探测器信号采集模式,STEM分辨率0.16nm@200kV,

采集BF/ABF/ADF/HAADF图像,具有IDPC实时成像技术;

● Super-X四探头能谱仪:

有效探测器面积为120 mm²,能量分辨率≤136 eV,立体角为0.9 srad,元素分析范围为B5~U92,可同时采集STEM和EDX的二维和三维分析信号,实现多维快速化学分析;

● 三维重构系统:三维重构硬件包含专用大倾角样品杆一套,和用于数据后处理的电脑;三维重构软件包括:数据采集软件包(TEM模式和STEM模式),和数据对中重构及可视化处理软件包,可以实现TEM模式的三维重构和和扫描透射(STEM)模式三维重构

主要应用

对各种材料样品进行形貌(如物相分布、粒径、分散性等)观察,分析材料晶体结构并进行纳米尺度的微结构分析,配合能谱仪对样品进行成分分析,选择特定设计的样品台进行原位动态实验等:

1)普通(高分辨)透射成像模式:可以用来观察样品的形貌和物相分布,高分辨像可用于确定材料的晶体结构,观测相分布、晶体缺陷及界面结构等;

2)电子衍射模式:主要用于物相、晶体结构研究,可进行选区电子衍射、会聚束电子衍射等;

3)扫描透射模式:主要用于形貌及结构的观察与分析。新型STEM探测器组合系统,可采集BF/ABF/ADF/HAADF图像,具有IDPC实时成像技术;

4)Super-X能谱:主要用于材料的化学成分的定性、定量分析,可选择性对样品进行点测、线扫、面分布分析,可同时采集STEM和EDX的二维和三维分析信号,实现多维快速化学分析;

5)三维重构系统:主要用于三维角度表征材料尺寸、形貌、三维构造及空间分布,可以实现TEM模式的三维重构和和扫描透射(STEM)模式三维重构;

6)单倾拉伸样品杆-654,用于以可控速率拉长TEM样品的原位实验;

7)原位加热样品杆,采用MEMS芯片加热,可实现温度精确控制,最高加热温度1200摄氏度,具有加热,电学测量,能谱仪数据采集一体化功能,可做原位的EDS能谱仪数据采集

样品要求

1) 样品无磁性(磁铁吸不起来);

2) 粉末样品表面清洁无污染物、电子束辐照稳定不分解;

3) 块体样品需离子减薄或FIB制样处理

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