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碳化硅行业动态汇总 | 清华大学苏州汽车研究院与至信微电子共建“碳化硅联合研发中心”
清华大学苏州汽车研究院与至信微电子
共建“碳化硅联合研发中心”
近日,清华大学苏州汽车研究院和深圳市至信微电子在苏州吴江举行“碳化硅联合研发中心”签约仪式。据悉,该研发中心旨在推动碳化硅技术在汽车电子领域的研究和运用,加速第三代半导体碳化硅在新能源车产线前端应用的落地与定制开发。盛美上海首获Ultra C SiC 碳化硅衬底
清洗设备采购订单
盛美上海宣布首次获得Ultra C SiC 碳化硅衬底清洗设备的采购订单。该平台还可配置盛美上海自主研发的空间交变相位移(SAPS)清洗技术,在不损伤器件的前提下实现更全面的清洗。该订单来自中国的碳化硅衬底制造商,预计将在2023年第三季度末发货。科友半导体产学研聚集区项目一期投产,
二期将于近期开工
据人民网3月26日报道,哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司(以下简称“科友半导体”)开发的高性能碳化硅长晶装备和高质量衬底产品实现规模化生产。自主研发的第三代半导体碳化硅产品不仅具有晶体生长周期短、良率高等优势,而且将衬底成本降低一半以上。据报道,科友半导体建设的省重点项目第三代半导体产学研聚集区一期工程已投入生产;第三代半导体产学研聚集区二期工程将于近期开工建设,建成后将实现年产导电型碳化硅衬底15万片。英飞凌发布光伏用1200V CoolSiC™
Boost EasyPACK™模块
3月27日,英飞凌对外发布新品—光伏用1200V CoolSiC™ Boost EasyPACK™模块。该模块采用M1H芯片,导通电阻8-17毫欧五个规格,PressFIT压接针和NTC。产品特点:Best-in-Class封装,高度为12毫米;领先的WBG材料和Easy模块封装;非常低的模块杂散电感;大的反向工作安全区RBSOA;1200V CoolSiC™ MOSFET,M1H芯片;增大了推荐栅极驱动电压范围,从+15...+18V & 0...-5V;扩展的最大栅极-源极电压为-10V到+23V;过载条件下的Tvjop最高可达175°C;集成NTC温度传感器。连城数控:液相法SiC长晶炉下线
液相SiC长晶技术具有多个优势,包括晶体质量高、成本低、易扩径、易实现稳定的p型掺杂等,近年来受到高度关注。最近,国内在该技术领域实现了新的技术突破——液相法碳化硅长晶炉顺利下线。中核纪元之光碳化硅材料生产厂房及
配套工程建设项目
最近,国内又新增了一个碳化硅项目,预计全部建成后将年产50000片6英寸SiC衬底。3月16日,中国核工业集团电子采购平台对外公示了“中核纪元之光碳化硅材料生产厂房及配套工程建设项目”的中标候选人,投标报价约为1456万元或1633万元。瞻芯电子推出2款TOLL封装650V
SiC MOSFET新产品
据瞻芯电子官微消息,该公司正式推出2款650V TOLL封装的碳化硅(SiC) MOSFET产品,分别为650V 40mΩ和60mΩ的SiC MOSFET,现已完成工规级可靠性认证(JEDEC)。迈凯伦选择意法半导体供应碳化硅
功率模块
据迈凯伦官网消息,公司已与意法半导体达成合作,下一代IPG5 800V逆变器将搭载由意法半导体提供的1200V SiC MOSFET模块。东芝电子加码SiC市场
据日媒报道,东芝半导体子公司东芝电子元件及存储装置(以下简称“东芝电子”)总裁佐藤裕之表示,公司的主要产品是用于控制汽车和家电功率的功率半导体,目前正在扩大产能。佐藤裕之表示,车用功率半导体的性能非常好,公司认为需要扩产。目前生产场地不够用,要建新厂房。据悉,东芝电子计划在姬路半导体工厂(位于兵库县太子町)建设新厂房,并将于2025年春季投产,建成后该工厂的汽车产品产能将增加一倍以上。未来,半导体市场将扩大,并且用途也逐渐明了。以汽车为例,随着电气化的推进,使用的半导体数量不断增加。佐藤裕之表示,未来东芝电子在半导体设备投资可能会增加。此外,佐藤裕之表示公司将会大力发展节能性好、采用“碳化硅(SiC)”材料的功率半导体,并透露量产应该在2025年开始,但日本和国外的客户都希望提前量产,公司方面将会讨论是否有可能推进进程。推荐阅读
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