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美晶新材:半导体合成石英坩埚制备专利,改善石英坩埚表面纯度

■ 信息来源 | 企查查(本文由“ACMI硅基新材料大会”整理后发布,转载请注明出处)



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北京国化新材料技术研究院联合东海县硅工业行业协会、硅产业绿色发展联盟等单位拟于2024年10月30日-11月1日无锡举办“2024中国硅基新材料(石英)产业发展大会”同期举办展览石英矿现场鉴定座谈会搭建顶级交流平台、凝聚行业顶尖人脉,诚邀行业人士共同参与。

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根据企查查数据显示浙江美晶新材料股份有限公司新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种半导体级合成石英坩埚及其制备方法”,授权日为2024年8月9日。专利摘要:本发明提供一种半导体级合成石英坩埚的制备方法,该制备方法包括:对石英砂成型后的石英坩埚依次进行排气处理、封皮处理、透明层熔制、气泡层熔制和冷却;封皮处理、透明层熔制和气泡层熔制过程中,水冷板与模具口的距离为50~80 mm。该制备方法有效减少外界杂质的进入,降低外界对坩埚内部熔融环境的影响,改善了合成石英坩埚R角内表面纯度高的问题。


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