半导体相关！三菱化学宣布扩产

来源：三菱化学

10月10日，三菱化学决定在日本九州福冈工厂增加用于生产半导体制造工艺超纯水的离子交换树脂的生产能力。升级后的设施计划于2026年4月投入运营。

三菱化学的相关材料业务覆盖半导体制造的两大工序。其中，占半导体制造工序30%的清洗工序需要特定的清洗介质，根据清洗介质的不同，目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线。

湿法清洗是针对不同的工艺需求，采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆表面进行无损伤清洗，以去除晶圆制造过程中的颗粒、自然氧化层、有机物、金属污染、牺牲层、抛光残留物等物质。

此次，三菱选择扩产的高级离子交换树脂可用于半导体湿法清洗工艺中所需的超纯水生产系统中的各种单元。

免责声明：所载内容来源于互联网、微信公众号等公开渠道，我们对文中观点保持中立态度。本文仅供参考，交流。转载的稿件版权归原作者和机构所有，如有侵权，请联系我们删除。END