攻克“卡脖子”！这一关键新材料实现重大突破

来源：东湖国家自主创新示范区、科创板日报、化工新材料、中国光谷

据东湖国家自主创新示范区官网10月15日消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。

该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。

相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

这标志着国产光刻胶在性能上已经能够与国际主流产品相媲美，对于推动国产光刻胶的产业化和自主可控具有重要意义。

太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心的团队于2024年5月成立，注册资本200万元。该公司的核心团队立足于关键光刻胶底层技术研发，在电子化学品领域深耕二十余载。

武汉光电国家研究中心是科技部于2017年批准建设的第一批，也是唯一的一批6个国家研究中心之一，其前身为2003年获批的武汉光电国家实验室（筹）。

太紫微公司的实控人为朱明强，最终受益股份是77%。除了朱明强本人外，太紫微公司的另外两家股东，湖北高碳光电科技有限公司、武汉市马斯洛普管理咨询合伙企业，朱明强则分别持股100%和8%。

朱明强是华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授，光学与电子信息学院双聘教授、英国皇家化学会会员。主要研究领域为有机及纳米光电子学，研究方向包括集中于光刻制造、有机纳米光电子学和超分辨率成像。

光刻胶：半导体制造核心材料

光刻胶，又称光致抗试剂，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料。

• 光刻胶上游

光刻胶产业链上游主要由感光树脂、光引发剂、溶剂组成，还包含抗氧化剂、均匀剂和增粘剂等辅助成分。我国从事光刻胶原材料研发及生产的供应商较少，我国光刻胶原材料市场主要被日本、韩国和美国厂商所占据。

其中，在光刻胶的组成成分中，感光树脂是光刻胶的主要成分，可以称作是光刻胶的“心脏”。

常见光刻胶（包括g线、i线、KrF、ArF、EUV五类）所用树脂类型如下：

• 光刻胶中游

中游主要包括PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等制造环节，全球光刻胶生产制造主要包括日本JSR、信越化学、住友化学、东京应化、美国陶氏化学等。

• 光刻胶下游

下游主要涉及半导体制造、平板显示屏、PCB（印刷电路板）制造及LED产业等领域。

光刻胶国产化加速中

目前，我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示，高端KrF/ArF光刻胶国产化率不到2%。

我国光刻胶行业起步较晚，国内厂商主要聚焦于紫外宽谱、g线、i线等中低端产品的生产；高端KrF/ArF的核心技术大部分被外资企业占据。另外，生产能力主要集中在PCB光刻胶，半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口，但目前高端光刻胶国产化加速中。

目前，国内已有多家公司有KrF/ArF光刻胶产品布局：

如八亿时空已于今年7月实现KrF光刻胶用PHS树脂百公斤级别的供货；

厦门恒坤新材自主研发的KrF、ArF光刻胶已于6月通过大厂验证并实现产业化；

彤程新材部分ArF/ArFi光刻胶产品已于4月开始批量供货；

上海新阳KrF光刻胶已有销售，销量逐步增加，合肥工厂目前在试生产阶段；

晶瑞电材多款KrF光刻胶已量产并供应多家半导体客户；

飞凯材料光致抗蚀剂产品包括应用于半导体领域的i-line及KrF光刻配套Barc材料。

华懋科技也有G/I线、KrF、ArF胶布局。

另外，鼎龙股份称已开发出7款KrF光刻胶产品，包括1款能达到KrF极限分辨率120nm L/S 和130nm Hole的光刻胶；

南大光电ArF光刻胶产品于2020年底通过客户认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶等。

但是我国在推动光刻胶国产化的过程中，也面临着一些难点。不仅需要在光刻胶产品本身的研发和生产上取得突破，还需要在上游核心原材料和配方的国产化上做出努力，以减少对进口的依赖，因为目前国产的光刻胶原材料配方稳定性等较国外有差距。

例如在KrF系列光刻胶产品中，T150 A对标的UV1610产品算是“很常用的胶”，门槛不算高（北京科华、徐州博康都可生产），但由于常用所以需求量会比较大。因而更多的人比较关注其配方和原材料是否国产化。

太紫微公司此次的突破也为国产光刻胶领域释放出积极的信号，也进一步推动了国产光刻胶的自主可控进程。这在此前报道相关内容中也提到过先进半导体材料是我们国家未来攻破的重点内容：史无前例！工信部新设部门！利好这两种化工新材料

太紫微公司负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示：“以原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始，我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，为国内相关产业带来更多惊喜。”

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