大家都知道，荷兰ASML在光刻机领域占据着绝对的垄断地位，我国芯片制造使用的光刻机大部分都来自ASML。但是，由于老美对中国芯片发展的打压，从2019年开始，ASML就开始限制向中国供应先进的EUV高端光刻机了。最近一段时间，老美更是联合了日本、荷兰达成了三方芯片联盟，再次加大了对我国进口光刻机的限制，不仅EUV光刻机不能进口，就连DUV光刻机中的浸没式光刻机也被限制了！如此一来，我国想大力发展芯片产业，无异于雪上加霜，难上加难了！而对于美国再次施压日荷，加大对中国提供光刻机的封锁，荷兰ASML其实并不认同，也不愿意跟随。
对此，ASML总裁温宁克也表示非常担心：“美国对中国的打压，将促使中国更快研发出世界一流的光刻机。”实际上，ASML的担心并不是空穴来风。虽然我国在光刻机方面遭受了来自老美巨大的制裁和打压，但是这并没有让我们屈服，也丝毫没能打击我们自主研发国产光刻机的决心和意志，反而更加促使我们加快了对光刻技术的攻克速度。
这段时间，相信大家都听说了，我国在芯片、光刻机方面取得了一系列的最新突破和科研成果，而且我们双管齐下，用两条腿走路，在两条不同的道路上均取得了重大进展。一条路是绕开光刻机制造芯片的新道路，这条路上我们目前已经成功研发出了光子芯片和量子芯片。
光子芯片方面，中科鑫通正在筹建的国内第一条光子生产线，目前正在如火如荼地建设中，预计今年有望建成投产。量子芯片方面，合肥本源量子公司去年就已经建成了国内第一条量子芯片生产线，目前正在热火朝天地生产量子芯片。
更令人欣喜的是，我国最强的量子计算机悟空号即将完成最后的安装调试，横空出世！另一条路是继续攻克光刻机技术，这条路上，我们近期也取得了多项重大突破。
一是上海微电子的国产3D/2.5D封测光刻机成功落地昆山同兴达，这标志着我国的国产光刻机正式用于生产。二是大族激光自主研发了两台成熟工艺的新型光刻机，一台是接近式光刻机，目前已经投入市场。另一台是步进式光刻机，也已经进入优化阶段，很快也能得到突破。
三是上海微电子继90nm光刻机具备量产技术后，目前正在加紧研发28nm光刻机。近日，哈工大已经突破了高超速精密激光干涉技术，这项技术获得了中国光学学会的最高奖项，是极为重要的光刻技术。这项技术的主要作用在于，能够用于350nm至28nm制程的光刻机样机集成研制和性能测试，可以解决困扰我国已久的28nm节点DUV光刻机的超精密双工件台问题。相信有了这项技术，我国研制成功28nm光刻机的日子已经为时不远了。不仅如此，它还为我们制造更先进制程的EUV光刻机提供了技术储备。难怪外媒得知后会禁不住感叹：不可思议，中国的研发速度太快了！
目前，我国只能量产14nm芯片，而7nm芯片之所以迟迟无法量产，就是因为缺少了EUV光刻机。如今有了这项技术，那我国制造高端光刻机就指日可待了，打破科技霸权的日子正在加速到来！
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