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纳米注塑、阳极氧化之纳米孔洞是如何产生的?

2015-12-07 邱耀弘 艾邦高分子

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深圳市鑫迪科技有限公司技术总监 邱耀弘博士

图:会议现场

材料制造加工一般分类两类:减材制造和增材制造。减材制造是我们目前应用最广的制造方法,如:车、铣、刨等;增材制造是近年来非常流行的方法,如:3D打印。和材料制造相类似,获取微/纳米结构也有减材和增材两大类方法。下面我们具体看一下:


一、材料削减法(Remove material, RM)

获取微/纳米结构的减材方法主要通过液体刻蚀和高能量移除的方法实现。其中,酸刻蚀条件温和、表面处理效果均匀、360°无死角,目前应用广泛。高能移除法会使金属结构件产生高温,会产生一定的变形和残留应力,且不适合复杂结构,故目前应用不多。


1.均质相金属


图:均质相金属的刻蚀效果

这类处理技术常用于铝/镁合金。如上图所示:金属光滑的表面通过酸等重复刻蚀,得到大的纳米洞(200-500nm),大纳米洞中有小的纳米孔(20-80nm)。这类技术广泛应用于手机结构件中(纳米注塑的前处理)。


2.兼具软硬相的非均质相金属


图:兼具软硬相非均质相金属的刻蚀效果

这类处理技术常用于钛和铜。通过酸蚀作用,金属表面软相被除去,留下硬相部分(如上图所示);硬相突出的纳米峰尺寸为100-500nm(白色部分),软相“平地”呈现暗色。


3.晶界侵蚀的非均质金属


图:晶界侵蚀的均质金属的刻蚀效果

这类处理技术常用于不锈钢与铁系合金中。不锈钢系列合金含有大量的耐蚀-镍、铬金属﹐因此处理相当费时﹐利用晶粒边界的低含镍与铬量﹐进行深孔腐蚀﹐因此深度甚至达10mm = 10,000nm。

通过比较,前三类方法得到的纳米孔洞尺寸大小为:均质相金属(200-500nm、20-80nm)<兼具软硬相的非均质相金属(100-500nm)<晶界侵蚀的非均质金属(10,000nm)。


4.高能移除法

1)激光汽化

激光汽化是以高能的激光交叉与偏摆角度制作微结构的一类方法。激光汽化容易产生热残留应力,导致基材扭曲,故难以工业化应用。

2)等离子汽化

等离子源类似激光,进行微结构加工;等离子能量远低于激光,所以较难执行。

3)传统CNC高速铣切微结构

苹果手机等不采用NMT或组合制程,CNC机加工仍是可靠的方式;这类方法加工品厚,结构大且粗,残留应力高。


二、材料增加法(Additivematerial, AM)

1.均质相金属


图:均质相金属阳极氧化效果

这类处理技术常用于纯铝中。当铝的不纯物低于3wt%时,可以获得很有规律的六方试管结构(氧化铝)。这类方法被熟知的应用为铝合金的阳极氧化,通过氧化得到六方试管结构,试管内加入透光染料或胶,再用封孔剂封孔,即可得到色彩靓丽的金属表面。


2.非均质相金属


图:均质相金属与非均质相金属的对比

非均质相金属包括压铸铝合金/镁合金/锌合金/钛合金等,非均质相金属由于结构没有规律,生成的氧化物纳米结构也没有规律。

铝合金(不纯物<5%)的氧化层,是很规则的六方中空管状物,所以适当填入染料,可以获得不同的颜色,很好看,光线穿透染料层反色金属光泽;钛合金的阳极氧化层,是不规则的连续孔洞,染料染了之后,颜色显色没有铝合金好看。

哪些材料也能做阳级发色?

只要使用正确的药水,常用有色金属都可以阳级发色如:压铸铝/镁铝/锌等合金、钛等。但必须考虑到是:

a.经济性与环保性;

b.氧化层与底材的密度必须接近(通常在50%以内的范围,如下表)。

表:常见金属的阳级发色情况

材料(纯金属)

密度g/cm3

安定氧化物

密度g/cm3

比例值

阳级层

1.71

MgO

3.85

+2.25

NG

2.73

Al2O3

3.7

+1.35

Good

4.5

TiO2

4.25

-0.94

Good

6.4

ZnO

5.6

-0.875

SFSG

7.8

Fe2O3

5.24

-0.672

NG

8.9

CuO

6.4

-0.719

NG


3.高能氧化技术


图:微弧氧化(左)和电晕处理(右)

高能氧化主要有微弧氧化和电晕处理。微弧氧化是通过高压放电的形式在其表面形成氧化层的方法,微弧氧化可以大幅度提高材料表面硬度。


4. 熔射喷涂技术

熔射喷涂的能量高,增材层过厚,不适合薄件产品,尤其是手机外壳。熔射喷涂主要包括:

1)火焰熔射喷涂,包括粉末火焰熔射、线材火焰熔射。

2)电弧熔射-线材熔射。

3)等离子熔射,包括粉末等离子熔射、线材等离子熔射。

4)超音速抛射。

本文引用的照片和资料,部分取自台湾晟铭电子/东莞成名电子/台湾昱捷/日本大成化成, 均为属该公司所有,如需引用需事先沟通并注明出处。


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