PALET无掩膜光刻机是日本Neoark公司生产一款基于DLP空间光调制技术的高性价比光刻系统。不同于传统的光刻机，该系统利用DMD代替传统的掩膜，增加灵活性的同时大大降低了时间和成本。
该设备采用365nm的紫外LED作为光源，可以适用于SU-8、AZ-P1350等众多的光刻胶，并且LED相对于汞灯和激光拥有更好的光源稳定性和均匀性，使用寿命可达10000小时。采用DMD作为数字掩膜，增加了设备的灵活性，可以根据自己的需求灵活设计和改变掩膜图形，采用10倍物镜时，光刻线宽可达到3微米，单次曝光面积可达到1X0.6mm，并在1s内完成曝光。若采用2倍物镜单次曝光面积可达5X3mm，并可以获得较高的深宽比，使用SU-8光刻胶时可获得深度超过100μm的陡直结构。
此外该设备可配备六维电动位移平台，实现半自动聚焦，自动校正晶圆的位置，并且可实现曝光拼接，曝光面积可到25X25mm，拼接精度为0.5μm。可实现套刻功能。设备软件界面友好易操作，除了支持CAD文件外，还支持多种不同的图片格式例如：Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
1.韩国Nanobase 拉曼光谱/荧光寿命/光电流成像系统介绍
2.高速高损伤阈值空间光调制器在超快激光微纳加工中的应用
3.无人机载多光谱遥感相机