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【中微公司】业绩点评:度过业务结构调整之年,刻蚀设备将主导公司未来业绩高成长
杨绍辉/陈祥/陶波
半导体设备与材料
2023-03-26
中微半导体发布业绩快报,2019年收入19.47亿元,同比增长18.8%; 营业利润1.98亿元,同比增长34.5%,利润总额1.98亿元,同比增长34.8%,净利润1.89亿元,同比增长107.5%,扣非净利润1.48亿元,同比增长41.5%。
预计营业收入的产品结构大幅优化。
尽管受LED行业调整影响,但刻蚀设备支撑公司整体收入保持较快增长。纵观
半导体设备供应商Applied Materials、TEL的收入结构中,集成电路工艺设备收入占90%以上
,中微2017/2018年设备收入中,集成电路工艺设备(刻蚀)占比35%、40%,我们预计2019年公司收入结构中集成电路工艺设备占比大幅提升,主要依据是2018-2019年中微获得长江存储、华虹无锡项目、上海华力二期的刻蚀设备订单显著增长,且考虑19年初15.9亿元在手订单中刻蚀设备、MOCVD设备的平均交付期(含验收)分别为6个月和12个月。
预计
2019
年刻蚀设备收入、订单均呈高增长。
一方面,中微公司的刻蚀设备核心客户之一台积电发布电话会议纪要,2019年资本开支大幅增长42%至149亿美元,2020年保持在150亿美元以上,中微刻蚀设备可用于TSMC的7nm/5nm先进制程;另一方面,中微公司在长江存储等国内晶圆厂的份额大幅提升。根据中国国际招标网,2017年以来中微累计中标长江存储38台刻蚀设备订单,占长江存储介质刻蚀设备所有采购量的24%。
在长江存储2017年至今的三次集中招标中,中微在介质刻蚀设备中的市占率依次是10%、30%、31%。
若按自然年份计算,2017-2020年中微半导体历年介质刻蚀的中标份额依次是12%、34%、19%、50%,其份额提升叠加国内晶圆厂密集扩产,公司刻蚀设备订单有望在未来几年内保持高增长。
新产品
ICP
刻蚀设备研发将带来更广泛的刻蚀工艺覆盖范围。
根据公司招股书,
ICP刻蚀市场规模正在超越CCP刻蚀设备市场规模,
因为逻辑电路先进制程及3D Nand层数增加对ICP刻蚀工艺需求大增。一旦公司ICP刻蚀设备研发产业化,中微将在现有可覆盖3D NAND中2/3的介质刻蚀工艺基础上,将进一步提升介质刻蚀工艺的覆盖广度以及硅基刻蚀的竞争能力。
根据长江存储采购数据,中微中标的介质刻蚀设备已覆盖顶层通孔、沟道通孔、接触孔、硬膜/掩模刻蚀等工艺,尚未覆盖ONO栅极介质刻蚀、侧墙刻蚀、台阶刻蚀等工艺
。
公司净利润增速明显快于营业收入增速。
19年公司净利润增长108%,而收入仅增长19%,主要原因是2018年发生的计入非经常性损益的股份支付费用1.02亿元而19年未有此类费用发生,且19年研发费用加计扣除增加等因素导致所得税费用减少。
投资建议:
随着在CCP刻蚀设备市场地位的提升,以及ICP刻蚀设备研发进步,中微公司将最大受益于国内外核心客户密集建产,同时根据企查查,公司目前持有CVD供应商沈阳拓荆11.2%股权,且公司于去年8月公布拟入股上海睿励,中微有望成为除光刻工艺、离子注入机之外的关键工艺设备平台,继续关注中微公司(688012)。
风险提示:
国内半导体下游客户扩产低于预期;
关键部件进口受贸易战影响。
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