国产28nm光刻机问世，攻克5nm芯片卡脖子：雄关漫道真如铁，而今迈步从头越

谁是我们的敌人？谁是我们的朋友？这个问题是革命的首要问题。---教员的一句顶一万句。

上海微电子的国产28nm光刻机已经交付，5nm的芯片已经在静水潜流。现在美国科技制裁带来的种种困难，难道会比革命时代更艰难么？

科技战最终也有终极一战，一代人有一代人的使命。我们的使命就是我们要用艰苦奋斗，英勇牺牲，打出一个未来30年的和平环境，让任何人都不敢再欺负我们。我们在为自己，也在为国家。为国舍命，日月同光；凤凰涅槃，人天共仰。历史会记住你们的，等我们同饮庆功酒那一天，于无声处听惊雷。

回顾中国科技的发展历史，每次到科技路线选择的十字路口，总有盖世英雄出现。80年代的倪光南带领的技工贸和贸工机之争，2019年的华为被美国全面制裁事件。历史的车轮都是由这些大事件推动前进，看似是偶然而已。他们前赴后继，呕心沥血推动着历史朝着正确的方向前进。虽然有曲折，但是从未放弃。

中国半导体国产化真正发力是在2019年5月16号华为被美国全面制裁。中国才开始聚焦于半导体的全产业链国产化，坚定了科技的战略方向。我们用5年的时间走过欧美100年的路，这就是中国自古以来人定胜天的气质决定了。技术的研发虽然不是一朝一夕的事情，但是正视差距，奋起直追，科技的进程只会越来越快。星光不负赶路人，做难事，必有所得！

光刻机是半导体产业的皇冠明珠。因此光刻机是必须要攻克的，它在芯片制造过程中起着至关重要的作用，是半导体产业核心战略产品。因此光刻机的研发成为科技的上甘岭，这也是美国一直打压中国的原因。禁止日本、欧洲、韩国等出口先进制程的光刻机和相关材料，就是为了阻止中国的科技发展。因此中美在科技方面的上甘岭大决战是不可避免的。

光刻机的技术门槛极高。光刻机能够在半导体晶圆上精确地绘制出微小而复杂的电路图案。这些图案的精度直接决定了芯片的性能和密度。光刻是半导体制造中最复杂和关键的工艺步骤之一。它涉及将电路设计从掩模转移到硅片上，这一过程需要极高的精度和稳定性。

光刻机是有明显的代际演进。随着摩尔定律的推进，芯片的特征尺寸不断缩小，光刻技术也在不断创新。例如，极紫外光刻（EUV）技术使用更短波长的光，实现更小的特征尺寸，从而推动了芯片性能的提升。光刻机属于整个产业价值曲线分配最高的环节，占据了27%。

光刻机是半导体制造设备中最昂贵的部分之一。其研发和制造需要大量的资金和技术投入。这也使得光刻机成为半导体行业中最具战略意义的设备。光刻机的这些特点使其在半导体制造中占据了不可替代的重要地位，因此被誉为“皇冠明珠”。

中国自主研发光刻机突破美国不断加码的封锁。中国已成功研发了90、65、55、45、28（纳米）等多个节点的光刻机，并开始量产和出口。这些光刻机虽然不是最先进的，但已满足部分国内外客户的需求，如汽车芯片、物联网芯片和安防芯片。据统计，2023年，中国自主研发的光刻机在国内市场份额达到15%，全球市场份额达到5%。我们已经走在了正确的科技兴国的道路上，美国的制裁只会让我们越走越快。

国产5nm芯片首发在即，值得期待。比起2023年的华为Mate60的先锋计划，更期待Mate70的发布。拉动国产电子工业崛起 中国为世界打造科技第二平面，实现中华有为。

华为作为中国科技企业的领头羊，通过自主创新、技术引领和产业链带动，为国产电子工业的发展做出了积极贡献。中国半导体行业走在了正确的战略路径上，未来必将成为全球第二极。将来中国为世界打造科技第二平面，为全球提供第二选择。

中国通过自主创新敢把美帝拉下马，与美国在科技上实现分庭抗礼。打造全球科技第二平面，中国科技出海，全面释放科技红利。未来科技国产化满足国内需求，科技出海满足海外其他国家的需求，为全球提供科技第二平面，打造一个新的科技体系指日可待！

中国依靠规模经济优势，后发制人，奋起追赶。未来在感知、连接、计算、存储、云、AI和应用领域，中国必将诞生一大批有竞争力的国际化企业，走出中国，走向全球，为世界提供第二平面选择。这也是美国打压中国，倒逼中国重新发展科技树的结果。

带动中国半导体工业的崛起，将是未来十年最大的产业红利。第一步先完成美国产品的替代，实现国产自主化。第二步出海寻求第二增长曲线，蚕食美国的海外市场。最终实现中国半导体产业真正在国际上站稳脚跟，扬名立万，敢于美国抗衡。

雄关漫道真如铁，而今迈步从头越！从头越，苍山如海，残阳如血。

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自我介绍：前华为人，战略规划15年经验，投资A股，4年25倍收益。终身学习，学以致用。产业战略洞察，科技锚点挖掘。躬身入局，胜天半子。

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知识星球：聚焦华为产业集群，目前包含以下领域：光刻机、计算产业、存储产业、工业激光、充电网络、自动驾驶，365元一年。投资最重要的是价值观的培养，不是买卖。支持三天无理由。

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