突发坏消息!国产光刻机巨头被制裁!
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报道称,被列入“未经核实名单”的公司必须接受更严格的出口管控,因为美国官员无法对其进行例行式核查。
官方文件显示,企业被列入“未经核实名单”并不意味着美国出口商不能与其合作,也不意味着这些企业存在具体、明确的国家安全或外交政策问题,但是需要额外提交相关文件,包括美国相关部门的允许,同时,若没有出口管理制度(EAR) 许可,此类交易没有资格获得授权。
显然,将33家中国实体加入“未经核实名单”是美国又一次无理打压中国企业的行径。
是巧合还是阴谋?
值得注意的是在被美国加入“未经核实名单”的前一天国产光刻机巨头上海微电子刚刚完成首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式。可以说其时间节点十分巧合,难免会让人联想到阴谋论。
据介绍,该光刻机主要应用于高密度异构集成领域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点,可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用,满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。可以说这个封装光刻机的意义也很大,因为随着摩尔定律接近极限,先进封装技术成了延续摩尔定律的一个关键技术。近年来,台积电就一直在研发和布局先进封装。
之前提到的华为研发的芯片叠加技术,要实现就需要用到先进封装光刻机。
需要说明的是,上海微电子此次交付的是用于IC后道制造的“先进封装光刻机”(把芯片用陶瓷或者树脂等封装起来),而并非应用于IC前道制造的“光刻机”(在芯片制造过程中使用,把高纯硅做成的一大片圆形的晶圆上通过光刻机刻出一个一个的芯片)。
那么我国的前道光刻机和后道光刻机全球到底处于什么水平呢?
“后道”有成!“前道”可期
在前道光刻机上,上海微电子能够量产90nm光刻机,正在攻坚更先进光刻机,这里的更先进指的是DUV光刻机和EUV光刻机。
目前开看前道光刻机市场基本被ASML、尼康和佳能这三家垄断。其中ASML的光刻机市场份额常年保持在80%左右,并且还是独家生产EUV光刻机。而日本的尼康和佳能只能生产中低端的光刻机,这三家的市场份额基本上达到99%。
因此,在前道光刻机上,我们还有很长的路要走。
不过,在后道光刻机上,上海微电子实力可不弱,在国内市场占到了80%左右的份额,在全球市场也占到40%份额。去年,富士康就一下采购了46台国产封装光刻机。
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