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在基础科研中，微纳结构的跨尺度光刻逐渐成为研究者在制备样品过程中的必要手段。常规光刻机需要定制光学掩模板，这不仅增高成本，还使灵活性大打折扣，即当发生任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备高灵活性，且可以实现较高精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。闪光科技为您推出TTT-07-UV Litho-ACA无掩模板紫外光刻机就采用空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩模板设计上有着得天独厚的优势。其分辨率可达1 µm，高性能无铁芯直线驱动电机保证了套刻精度和6英寸的图形拼接。同时，其研发团队通过定制化微纳结构与器件的低成本、效率达成批量制造，实现规模化应用，助力电子、光学和生物等领域的微纳米器件研究与开发。
主要应用方向包括：微流道芯片，微纳结构曝光，电输运测试/光电测试器件，二维材料的电极搭建，太赫兹/毫米波器件制备，光学掩模板的制作等。
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