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新品推荐——无掩膜版紫外光刻机
联系邮箱：frank-yang@spark-opt.com在基础科研中，微纳结构的跨尺度光刻逐渐成为研究者在制备样品过程中的必要手段。常规光刻机需要定制光学掩模板，这不仅增高成本，还使灵活性大打折扣，即当发生任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备高灵活性，且可以实现较高精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。闪光科技为您推出TTT-07-UV
2023年4月18日