查看原文
其他

研究透视:Nature Electronics-硅量子点材料,鳍式场效应晶体管​FinFET

今日新材料 今日新材料 2023-01-06
导读:FinFET全称Fin Field-Effect Transistor,鳍式场效应晶体管,是一种新的互补式金氧半导体晶体管。FinFET命名根据晶体管的形状与鱼鳍的相似性。
量子计算的最大挑战,是实现可扩展性。以前面临这些问题的是经典计算,目前依赖于承载数十亿鳍场效应晶体管的硅芯片。对于量子应用来说,这些设备足够小:在低温下,门捕获的电子或空穴可以充当自旋量子比特。这种方法,潜在地允许量子硬件及其经典控制电子设备集成在同一芯片上。然而,这需要量子位在高于1K的温度下操作,其中冷却克服了热耗散。
近日,瑞士 巴塞尔大学(University of Basel)Dominik M. Zumbühl和Andreas V. Kuhlmann团队在Nature Electronics上发文,报道了展示了硅鳍形场效应晶体管,可以承载工作在4K以上的自旋量子比特。实现了空穴自旋的快速电控制,驱动频率高达150MHz,单量子比特门保真度在容错阈值,拉比振荡品质因子大于87。这一设备具有行业兼容性和质量,并以灵活和敏捷方式制造,这将加快量子计算进一步发展。

A hole spin qubit in a fin field-effect transistor above 4 kelvin. 
4开尔文以上鳍式场效应晶体管中的空穴自旋量子比特。

图1:FinFET的自旋-轨道量子比特。


图2:热量子比特相干性。


图3:X、Y和Z量子位门。


图4:动态解耦和噪声谱。


该项研究报道了,在4K以上工作的硅鳍片场效应晶体管中的空穴自旋量子比特。强自旋轨道偶合spin–orbit interaction SOI,允许147MHz的自旋旋转,弱超精细耦合确保T*2高达440ns。除了双轴控制之外,还通过使用G*因子的电调谐性,实现快速Z旋转。在1.5K下,实现了容错单量子比特门保真度。这些结果是使用行业兼容的FinFET器件架构实现的,该架构也非常适合于实现更大的相互作用量子比特阵列,例如交换耦合QD自旋的线性链。通过耦合到超导MW谐振器或相干自旋穿梭,可以实现超过最近邻的连通性。

在寻求更高量子比特品质因子过程中,可以通过设计一个几乎没有核自旋的环境,防止超精细诱导的退相。尽管更强的自旋轨道偶合SOI,产生更短的栅极时间,但也增加了对电荷噪声的敏感性。然而,对于硅鳍片场效应晶体管FinFET的空穴自旋,已经预测了一种异常强且同时电可调的自旋轨道偶合SOI,允许在量子位空闲和操纵模式之间按需切换。

此外,对于精确的量子位测量,需要空穴自旋的快速单次读出。在几个开尔文温度下,这可以使用利用两个量子化状态之间隧道效应的双量子点 double quantum dot DQD电荷传感器来实现。与单传感器量子点Quantum dot QD相比,该技术对温度适应能力更强,并且在大于100 kHz带宽下,实现了高达8K的高保真单次读出。此外,使用硅DQD49射频反射计证明了<1μs的读取时间分辨率,这与空穴自旋寿命相比是快速的。在4K及以上的温度下,这些FinFET的空穴自旋量子比特,有望应用于这些最新量子读出技术。


文献链接:https://www.nature.com/articles/s41928-022-00722-0
https://doi.org/10.1038/s41928-022-00722-0
本文译自Nature。

推荐阅读
【进展】单原子层沟道的鳍式场效应晶体管问世
【视频】FinFET(鳍式场效应晶体管)之父胡正明教授带你简单了解FinFET
科研成果 | 西交大科研人员基于超临界流体工艺研制成高性能碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管
研究前沿:硅量子点材料-Nature Electronics
研究资讯:量子点材料与显示技术发展现状
研究透视:Science综述-量子点材料-技术进步与未来挑战
走近前沿新材料II:量子点——色彩缤纷的纳米


您可能也对以下帖子感兴趣

文章有问题?点此查看未经处理的缓存