5.8亿！光刻胶龙头企业再扩产能
来源：巨潮资讯、澎湃新闻
2月14日，上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告称：公司拟与上海化学工业区管理委员会、上海化学工业区发展有限公司签订《投资意向协议》，变更全资子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司注册于上海化学工业区，并启动位于上海化学工业区的项目建设。
上海化学工业区项目概况
项目投资：5.8亿
项目占地：104亩
项目内容：项目预计年产50吨I线、KrF、ArF干/湿法光刻胶；年产10000吨光刻胶稀释剂；年产5000吨高选择比氮化钛刻蚀液系列产品；年产15000吨干法蚀刻清洗液系列产品。
项目周期：拟于2023年取得施工许可证，2025年底前竣工，2026年6月底前投 产。
上海新阳产能
上海新阳主营晶圆超纯化学材料产品，也就是光刻胶。历经二十余年发展，已经拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，电子光刻及电子研磨核心技术正在形成。
公司聚焦于集成电路关键工艺材料业务，已建设上海厂区产能1.9万吨/年，合肥第二生产基地一期1.7万吨/年的产品产能，突破公司现有产能瓶颈，为公司进一步加大国产替代速度奠定基础。
1月份，公司曾对外表示，公司KrF光刻胶已批量化生产销售，ArF类光刻胶样品目前在国内晶圆制造企业验证中，EUV光刻胶尚在开发阶段。
上海新阳
上海新阳创立于1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市。公司此前在公告中提到：
公司成立前10年，研发出了面向半导体封装领域的第一代电子电镀与电子清洗技术，为我国半导体封装引线脚工艺加工带来了一场根本性技术变革与提升；
后10年，研发出了面向芯片制造领域的第二代电子电镀与电子清洗技术，为我国芯片制造铜互连工艺填补了国产材料的空白，实现了国产替代和自主供应能力，一举突破了国外企业在这一领域的垄断，避免了被国外封锁与“卡脖子”的可能。
迄今为止，公司是国内唯一能够满足芯片90-14nm铜制程全部技术节点对电镀液要求的本土企业。
责任编辑：Rebecca