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ASML CFO：「一般而言」从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证
对于目前的业绩，ASML总裁兼首席执行官 Peter Wennink 表示：“我们第三季度的销售额达到 40 亿欧元， 超过我们的预期。毛利率维持在 47.5%。我们一共交付了 10 台 EUV 系统，并在本季度实现了 14 台系统的销售收入。在过去的第三季度中，我们的业务没有因为疫情受到大规模的负面影响。我们第三季度的新增订单达到 29 亿欧元，其中 5.95 亿欧元来自 4 台 EUV 设备。”
从这个说明我们可以看到，ASML EUV光刻机的售价约为1.48亿欧元，折合人民币11.74亿元。
Roger Dassen指出，在中国业务方面，去年中国本土客户为ASML创造了约8亿欧元的销售额，今年将会更多，预计超过10亿欧元。
关于美国有可能对中芯国际采取限制措施，Roger Dassen表示，ASML今年客户以逻辑工艺领域为主，中芯国际则是ASML的主要逻辑工艺领域客户。
“我们不会对特定的客户情况进行推测或评论，但总的来说，我们会在法律和法规要求的范围内尽最大的能力继续为客户提供服务。”Roger Dassen如是说。
Roger Dassen进一步指出，ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释，当然也知道这些与特定的中国客户密切相关，但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义（对于特定的中国客户），则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，且无需出口许可证。不过，如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统，ASML则需要为此申请出口许可证。
据Peter Wennink介绍，DUV光刻机方面，该公司在本季度对第一台TWINSCAN NXT：2050i 进行了质量认证，并于第四季度初发货。NXT：2050i是基于NXT平台的新版本，其中包括掩模版工作台，晶圆工作台，投影物镜和曝光激光器的技术改进。由于这些创新，该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生产率，NXT：2050i 将立即进入批量生产。
EUV光刻机方面，绝大部分TWINSCAN NXE:3400B 系统在客户处同时进行了生产率模组的升级，在三季度完成。ASML还披露他们全新的极紫外光刻机将在明年年中开始出货的，型号为TWINSCAN NXE:3600D。
在财报中，阿斯麦表示他们已经敲定了TWINSCAN NXE:3600D的最终规格，这是 EUV 路线图上的新机型，具体来说，30mJ/c㎡ 的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1nm，计划于2021年中期开始发货，客户还需要一定时间等待，价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。
值得注意的是，在2019年的年报中，阿斯麦就曾披露他们在研发新一代的极紫外光刻机，但当时他们是计划在2022年年初开始出货，2024或者2025年大规模生产。三季度财报中披露在明年年中开始出货，也就意味着出货时间较原计划提前了半年。
极紫外光刻机是7nm和5nm芯片制程工艺所必不可少的设备，目前全球只有阿斯麦能供应。台积电、三星这两大芯片代工商的制程工艺都已提升到了7nm和5nm，他们所需要的极紫外光刻机也全部仰仗于阿斯麦，全新的TWINSCAN NXE:3600D的首台，预计也会交由这两家代工商中的一家。
三星正试图通过EUV技术来增强其芯片制造能力。自2000年以来，三星一直与ASML合作，以提高其在半导体制造领域的竞争力。2012年，韩国科技巨头甚至对ASML进行了战略投资。三星在韩国平泽市建设一条新的生产线，该生产线专注于基于EUV的5纳米及以下工艺技术。
据韩联社报道，日前，三星电子副董事长李在镕（Lee Jae-yong）与ASML Holding NV的高管会面，李与ASML高管讨论了超紫外线（EUV）设备的供应计划，他还参观了ASML的工厂，以检查其EUV设备的生产。
目前，ASML已经投产的最先进光刻机是3400C，但主力出货型号是3400B。参数方面，3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/c㎡ ，每小时可曝光125片晶圆。
据悉，在截止9月30日的单季度，ASML共获得60台光刻机收入，出货了10台EUV光刻机。
对于第四季度的市场和销售预期，Peter Wennink 表示：“我们期待第四季度的销售额将在36亿欧元到38亿欧元之间，毛利率约在 50%。研发成本约 5.5 亿欧元，销售及管理费用约 1.4 亿欧元。我们将实现 2020 年全年的销售预期。预估 2020 年度有效税率在 14%左右。“
展望2021年，Peter Wennink认为，5G，人工智能和高性能计算将推动先进制程逻辑芯片和存储芯片的市场需求，这些都需要使用先进的光刻机。
来源：综合整理自集微网、半导体行业观察、EETOP、快科技、yna、ASML官网等