20世纪40年代以来，以微电子技术为主导的信息技术革命极大推动了科学技术的发展和社会的变革。过去几十年来，微电子技术产业沿摩尔定律取得了突飞猛进的发展，按照摩尔定律的预测，集成电路可容纳晶体管数目大约每两年增加一倍。目前集成电路中可实现的最小加工尺寸为3-5纳米。当前，随着集成电路特征尺寸逼近工艺和物理极限，进一步缩小晶体管器件特征尺寸极具挑战。

11月13日，“伟大的变革——庆祝改革开放40周年大型展览”在国家博物馆开展，金属所“SEBF/SLF重腐蚀防护技术”成果参加了展览，国家主席、中央军委主席习近平等党和国家领导人参观了展览。