OLEDON与檀国大学成功开发出下一代超高分辨率蒸镀技术

2017-06-06 CINNO

韩国檀国大学Chin Byung-Doo教授和Hwang Chang-Hoon教授以及OLEDON首席执行官共同在2017SID上宣布，他们已经成功开发了0.38um遮罩间距（Shadow Distance，简称SD）的蒸镀沉积技术。

OLEDON首席执行官Mr. Hwang在2016年IMID商业论坛上宣布，他以100um厚的遮罩成功实现了1.1um的面蒸发源距离。那时候Mr. Hwang说：“如果我们将Step高度降低到3μm，理论上我们可以将遮罩间距降到0.38um，所以OLED面板的分辨率可能会超过2250ppi。”

在2017年SID上，OLEDON展示了其SD 0.38um的实际结果，得到了相关行业人士对其可量产性的高度关注。

目前大约3μm厚的遮罩在OLED面板生产中很难实现高于QHD（约600ppi）的分辨率，因为这将导致超过800ppi的UHD中的RGB像素重叠，因此，OLED面板仅在QHD级别生产。

如果将OLEDON的面蒸发源沉积技术应用于批量生产，遮罩距离可以降低到0.38~0.56um，这可以提高约8倍的分辨率。此外，如果将来把尺寸扩大应用至大尺寸OLED显示器生产，则可以制造配备超过3300ppi的超高分辨率（SUHD）的微型AMOLED设备。

侯先生在SID上介绍的技术原理

随着近期对显示分辨率的重视，OLEDON的研究成果预计将对相关行业产生重大影响。

同时，Mr. Hwang也通过沉积领域专业公司花了25年的开发新的沉积技术。他拥有原始沉积技术专利（自上而下感应沉积的线性有机器件大规模生产设备：注册号：101206162000）。

来源：OLEDNET

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