加速韩国本土化！东进世美肯决定扩建光刻胶工厂

文 | 小C君 · 编译 | Nina

来源 ：etnews

CINNO Research 产业资讯，继杜邦决定在韩国投资建设EUV光刻胶开发生产工厂后，韩国半导体面板材料厂东进世美肯（DongJin Seminchem）在去年开始的“脱日本化”大环境下，近日也确定在韩国扩建光刻胶工厂。

韩国产业通商资源部15日表示，东进世美肯已确定光刻胶工厂扩建，计划于一季度内动工。东进世美肯公司是在2010年作为韩国首家成功量产出EUV光刻胶前段制程氟化氩（ArF）液浸式光刻胶的企业，若新光刻胶工厂扩建顺利，并于明年初跨入量产后，公司的产量将会翻倍提升。
而当天，韩国产业部次官Jeung Seungil莅临东进世美肯华城工厂并表示：在政府和民众企业共同努力下，光刻胶和高纯度氟化氢、聚酰亚胺等3大受限品类已经确保了稳定供应。政府将今年作为材料、零部件、设备产业竞争力提升元年，会持续推出相关政策。同时表示，十分期待东进世美肯1季度扩产后，进一步稳定韩国光刻胶供应。

光刻胶作为一种光敏材料，是半导体曝光制程在晶圆绘制Pattern的必备材料。根据不同的光波长区分为△KrF·248㎚、 △ArF·193㎚、△EUV·13.5㎚，波长越小就越适合于细微制程。
光刻胶是韩国对日进口依赖度十分高的品类，根据韩国贸易协会数据显示去年1~6月间光刻胶的日本进口比率达92%，去年7月份起日本对韩国进行出口限制后其比率依然为85%。政府和企业为降低对日的依赖，专注于供应多元化和国产化等多方努力。
韩国产业部强调通过比利时（RMQC）、美国（杜邦）、德国（默克）等多国企业实现多元化供应。日本出口限制后，比利时的出口额增加率达1031%， 美国和德国各增加了15.8%和66.7%。杜邦9日时宣布投资2800万美金在韩国建造EUV光刻胶研发制造设施，并将联手韩国主要需求客户进行验证。
业界认为，通过东进世美肯本次扩产，ArF光刻胶产量将会大幅提升。此前东进世美肯虽一直有生产ArF光刻胶，但产量微乎其微。
东进世事美肯华城工厂此前主要生产KrF光刻胶，但扩产后将会大幅提升半导体芯片制程通用的ArF光刻胶，打破日本独霸天下，近日公司为了材料技术的高度专业化，还新购入了新ArF曝光设备。
业界评论：虽然EUV光刻胶作为次世代材料更受瞩目，但实际上ArF的市场规模更大，东进世美肯若能乘上国产化东风，公司有望加速进入到ArF光刻胶市场扩张。- END -

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