专刊征稿（光刻胶材料的研发及其应用）

征 稿 函

在过去近40年里，随着光刻技术的不断进步，半导体器件的工艺节点从最早的10 μm已经缩小到7nm，目前，国际上重要的半导体公司如三星、台积电已经在7 nm节点工艺中导入极紫外（EUV，13.5 nm）光刻技术，即将量产的5 nm节点中关键工艺也将采用极紫外光刻技术，极紫外光刻已经明确成为下一代光刻技术。光刻胶和光刻技术的发展相互匹配，开发综合性能满足极紫外光刻技术要求的光刻胶材料是目前面临的一个重要挑战。

当前国内大规模集成电路作为一级学科的背景下，光刻胶开发与应用工作具有特殊的指导意义。我刊邀请业内专家围绕该领域确定主题开展一期“光刻胶材料的研发及其应用”专刊。栏目包括：专辑序言、个人专访、亮点述评、综述、研究论文。同时在期刊微信公众号、官网设立宣传页面和开展相关科学报道。

稿件要求（具体要求见主页http://yyhx.ciac.jl.cn，投稿时请选约稿）

专辑序言、个人专访、亮点述评：由客座编辑负责撰写或组织。

综述：结合应用前景和本人工作, 评述当前化学学科的研究热点和前沿课题，提出自己的见解及对未来研究的展望。（一般8~12页，长短综述均可，1~3篇）；

研究论文：报道具重要意义的创新性科研成果（一般6~10页，6~10篇）。

研究简报：报道阶段性创新成果，研发及工艺改进（不多于3页，1~3篇）

期刊简介

《应用化学》于1983年创刊，由中国科学院长春应用化学研究所和中国化学会共同主办、科学出版社出版综合性学术期刊（月刊）。着重报道化学及交叉学科有应用前景的创新性基础科学研究和创造性科研技术成果。期刊被CA（or SciFinder）、《中文核心期刊要目总览》、《中国科学引文数据库》、清华同方中国期刊全文数据库，万方中国数字化期刊全文数据库，维普中文科技期刊数据库等收录。

时间安排

投稿截止日期：2021 年3月30日

论文出版日期：2021 年9月10日           

联系方式

季生象  研究员 客座编辑

E-mail：[e-mail]；Tel：[phone]

单位：中国科学院长春应用化学研究所，生态环境高分子材料重点实验室

张柏林  研究员 执行副主编

E-mail：[e-mail]

中国科学院长春应用化学研究所联合编辑部《应用化学》期刊

长春市人民大街5625 号，长春 130022

Tel：[phone]; 2330；E-mail：[e-mail]

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