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事关多晶硅、高纯石英、碳化硅等!2024版重点新材料首批次应用示范指导目录发布

■ 信息来源 | 工信部(本文由“SAGSI硅产业研究”整理后发布,转载请注明出处)

12月22日,工业和信息化部发布《工业和信息化部关于发布重点新材料首批次应用示范指导目录(2024年版)的通告》。(以下简称《目录》)。原文见:https://www.miit.gov.cn/zwgk/zcwj/wjfb/tg/art/2023/art_beb12a18094a4cfd8cd634417764d0cf.html《目录》将于2024年1月1日起实施,《重点新材料首批次应用示范指导目录(2021年版)》(工信部原函〔2021〕384号)同时废止。
新版《目录》包括先进基础材料、关键战略材料、前沿新材料等三大类共299种产品,较早前发布的征求意见稿多3种,比2021版减少了8种。“SAGSI硅基新材料”针对2024版《目录》中有关高纯石英、多晶硅、单晶硅、碳化硅、氮化硅、硅基电子特气等领域的重点新材料进行了汇总,这些材料的最新性能要求如下:1、半导体用高纯石英玻璃制品    (1)石英扩散管:外径300~400mm,偏壁厚≤0.6mm,金属杂质含量≤13ppm;
(2)石英外管、 内管、 工艺管、 石英舟:羟基含量≤30ppm, 垂直度≤1mm, 管口平面度≤0.1mm, 壁厚偏差≤0.5mm;(3)电熔锭材类:羟基含量低于30ppm, 总金属杂质含量≤50ppm。    2、光学高纯合成石英材料及制品    (1)紫外光学用石英玻璃:直径或对角线≥600mm, 光学非均匀性≤4×10-6, 应力≤5nm/cm, 条纹度5级;(2)光纤用高纯石英:SiO2含量≥99.95%;热变色性:试样在1100℃条件下保温2h,透射比变化值不大于4%;双折射:Ⅰ类;(3)耐紫外辐照用石英玻璃:应力双折射小于1nm/cm,有效口径内的折射率均匀性≤2ppm,用于图像显影用的石英透镜材料折射率均匀性≤0.5ppm;(4)太阳能用石英玻璃及制品:金属杂质含量≤30ppm(Al,B,Ca,Co,Cu,Fe,K,Li, Mg,Mn,Na,Ni,Ti) ;器件羟基含量≤300ppm。   3、硼硅4.0防火玻璃    耐火时间≥180min,软化点≥840℃,膨胀系数:(4.0±0.2)×10-6K-1。  4、氮化硅基板    热导率≥85W/(m·K), 抗弯强度≥700MPa。   5、氮化硅陶瓷轴承球    抗弯强度≥900MPa;断裂韧性6~7MPa·m1/2;硬度 HV10≥1480kg/mm2;压碎载荷比≥40%。   6、电子级超细高纯球形二氧化硅    SiO2≥99.9%, 球化率≥99%,D50:0.3~3μm,电导率≤10μS/cm,烧失量≤0.2%。    7、陶瓷基复合材料    (1)耐烧蚀C/SiC复合材料:密度为2.5~3.2g/cm3, 室温拉伸强度≥150MPa, 拉伸模量≥120GPa, 断裂韧性≥10MPa·m1/2,1600℃拉伸强度≥100MPa, 耐温性能≥1800℃,满足2MW/m2 以上热流环境下1000s 零烧蚀或微烧蚀的要求;(2)核电用SiC/SiC复合材料:密度为2.7~2.9g/cm3,室温拉伸强度≥250MPa,拉伸模量≥150GPa, 断裂韧性≥10MPa·m1/2, 1200℃拉伸强度≥200MPa,导热系数≥20W/(m·K), 热膨胀系数(25~1300℃) 3~5×10-6/℃;(3)航空用SiC/SiC复合材料:密度为2.5~2.9g/cm3,室温拉伸强度≥250MPa,拉伸模量≥150GPa,断裂韧性≥10MPa·m1/2,1300℃拉伸强度≥200MPa,拉伸模量≥100GPa,断裂韧性≥10MPa·m1/2,强度保持率≥80%(1300℃、 120MPa 应力下氧气环境热处理500小时) 。   8、石英纤维增强酚醛树脂复合材料    (1)高密度产品:密度1.0~1.2g/cm3, 拉伸强度20~30MPa,拉伸断裂伸长率0.3%~0.5%,导热系数 0.18~0.21W/(m·K),小发烧蚀0.15~0.25mm/s;(2)中密度产品:密度0.8~1.0g/cm3,拉伸强度15~18MPa,拉伸断裂伸长率0.2%~0.4%,导热系数 0.17~0.2W/(m·K), 小发烧蚀0.17~0.21mm/s;(3)低密度产品:密度0.68~0.72g/cm3,拉伸强度10~12MPa,拉伸断裂伸长率0.7%~1.2%,导热系数 0.14~0.17W/(m·K)。9、连续碳化硅纤维    (1)掺杂型二代连续碳化硅纤维:单纤维直径8~10μm,密度2.4~2.6g/cm3,单丝拉伸强度≥2.8GPa, 束丝拉伸强度≥2.5GPa,拉伸弹性模量≥200GPa,断裂伸长率≥1%,氧含量≤10%,掺金属元素含量≤1%, 单丝拉伸强度≥2.5GPa(1250℃氩气1h) ,单丝拉伸强度≥2.3GPa(1000℃空气1h);(2)掺杂型三代连续碳化硅纤维:单纤维直径为8±1.0μm,密度为3.10±0.15g/cm3,单丝拉伸强度≥2.8GPa,束丝拉伸强度≥2.6GPa,拉伸弹性模量≥360GPa,断裂伸长率≥0.8%,SiC晶粒尺寸≥30nm, 碳硅原子比为1.05~1.2,氧含量≤0.8%,掺杂元素≤3wt%, 耐温性能(1500℃氩气1h,强度保留率≥80%) ,抗氧化性能(1250℃空气1h,强度保留率≥80%);(3)吸波型连续碳化硅纤维:拉伸强度≥2.3GPa,杨氏模量≥200GPa,电阻率10510-2Ω·cm可调。   10、连续氮化硅纤维    束丝上浆率:4101:1.5~3.5%;4103:0.9~2.9%;单丝直径13.0±1.0μm;离散系数小于20%;线密度155±8Tex;密度2.25±0.10g/cm3,单丝拉伸强度≥1.60GPa;束丝拉伸强度≥1.60GPa,离散系数小于 15%;拉伸弹性模量≥140GPa,离散系数小于10%;断裂伸长率≥0.80%,离散系数小于10%;氧含量≤3.0%,碳含量≤0.9%,氮含量(37.0±3.0)%;高温强度保留率:1250℃氩气,1h:≥1.30GPa,1200℃空气,1h:≥1.20GPa。   11、碳化硅单晶衬底及同质外延片    (1)碳化硅单晶衬底:6英寸及以上,微管密度≤0.2/cm2,TTV≤10µm,BOW:-15~15µm, Warp≤35µm,表面粗糙度Ra≤0.15nm,N型碳化硅衬底电阻率0.015~0.025Ω·cm,BPD≤1000/cm2;半绝缘碳化硅衬底电阻率≥1010Ω·cm。(2)碳化硅同质外延片:大于6英寸,外延片内浓度不均匀性≤10%;外延片内厚度不均匀性≤5%;外延表面缺陷密度≤1cm-2;外延表面粗糙度≤0.3nm。   12、8-12英寸硅单晶抛光片和外延片    (1)8英寸轻掺硅单晶抛光片:晶向(100),P 型, 硼掺杂,电阻率1~200Ω·cm,氧含量6~15ppma, ≥90nm的颗粒少于80颗;尺寸要求:外径 200mm±0.2mm,厚度600~750μm,厚度允许偏差±15μm,总厚度变化≤4μm;总平整度≤3μm;局部平整度(SBIR25×25)≤0.8μm;弯曲度≤40μm;翘曲度≤40μm;(2)8英寸重掺硅单晶抛光片:晶向(100)/(111),P 型/N型, 硼/磷/砷/锑掺杂,电阻率 0.0007~0.08Ω·cm,氧含量8~18ppma,≥120nm的颗粒少于200颗;尺寸要求:外径200mm±0.2mm,厚度600~750μm,厚度允许偏差±15μm,总厚度变化≤5μm;总平整度≤4μm;局部平整度(SBIR25×25) ≤1.2μm;弯曲度≤60μm;翘曲度≤60μm;(3)12英寸硅单晶抛光片:外径300mm±0.2mm,厚度允许偏差±25μm,总厚度变化≤3μm,翘曲度≤50μm,局部平整度(SFQR25×25)≤0.1μm。(4)12英寸硅单晶外延片:产品类型N/N,掺杂元素磷;外延电阻率≥80Ω·cm;电阻率梯度≤7%;外延层厚度≥80μm;厚度偏差≤3.5%;BOW≤45μm;Warp≤60μm。   13、区熔用多晶硅材料    外观要求:直径≥120mm,直径变化≤1mm,椭圆度≤1mm,同轴度≤1mm;电学性能要求:施主杂质浓度≤0.04×10-9(ppba),受主杂质浓度≤0.02×10-9(ppba),碳浓度≤2.0×1015atoms/cm3,氧浓度≤5×1015atoms/cm3,少数载流子寿命≥1500μs,基体金属杂质Fe、Cr、Ni、Cu、Zn、Na总含量≤1ng/g。    14、特种气体    (1)乙硅烷:纯度≥99.998%,H2≤200ppmv, N2≤1ppmv,O2+Ar≤1ppmv,CO≤1ppmv,CH4≤1ppmv,CO2≤1ppmv,TotalChlorosilanes≤0.2ppmv,HigherSilanes≤50ppmv,SiH4≤200ppmv, Siloxanes≤5ppmv,H2O≤1ppmv;    (2)二氯硅烷(DCS) :纯度≥99.9999%,Al≤1ppb,B≤2ppb,Fe≤3ppb,Ti≤1ppb;(3) 六氯乙硅烷(HCDS) :纯度≥99.9999%,Al≤2ppb,Fe≤2ppb,K≤1ppb,Ni≤2ppb,己烷≤0.03%;   (4)正硅酸乙酯:纯度≥99.9999%,杂质总和≤1ppb,铝≤0.1ppb,钴≤0.1ppb,铁≤0.1ppb,锰≤0.1ppb,镍≤0.1ppb;氯含量≤0.05ppm,水≤5ppm;    (5)双(二乙基胺基) 硅烷、磷化氢、砷化氢:纯度≥99.9999%;(6)高纯四氟化硅(5N) :纯度≥99.999%;杂质含量≤10ppb;总金属离子≤1ppm;    (7)高纯硅烷(6.8N) :纯度≤99.99998%,金属离子杂质≥0.2ppb。    15、取向硅钢超/极薄带    
薄带厚度≤0.10mm(0.08~0.05mm) ;800A/m(峰值) 时磁感应强度B800≥1.81T;在400Hz下磁感应强度为1.5T时最大比总损耗P1.5/400≤11.50W/kg。    16、光伏多晶硅反应器用铁镍基合金中厚板    (1)N08810:室温拉伸Rm≥450MPa, Rp0.2≥170MPa,A≥30%,600℃Rp0.2≥110MPa, 晶粒度5级, ASTMG28A法晶间腐蚀率≤12mm/a, 超声和渗透探伤均符合 NB/T47013标准;(2)N08120:室温拉Rm≥621MPa, Rp0.2≥276MPa,A≥30%,600℃Rp0.2≥140MPa, 晶粒度5级, ASTMG28A法晶间腐蚀率≤12mm/a, 超声和渗透探伤均符合NB/T47013标准。  17、多晶硅用超大尺寸环形细结构石墨    
成品尺寸:Φ1360/890mm×1100mm;体积密度≥1.75g/cm3;抗折强度≥35MPa;CTE≤5.3×10-6/K。  18、铝基碳化硅复合材料    室温热导率≥200W/(m·K), 抗弯折强度≥500MPa, 热膨胀系数(RT~200℃) ≤9ppm/℃。   19、低膨胀高导热粉末冶金硅/铝复合材料及制品    (1)27%硅/铝:密度2.59g/cm3,热导率≥150W/mK,热膨胀系数16.6±1×10-6/K,抗拉强度≥140MPa;(2)50%硅/铝:密度2.51g/cm3,热导率≥135W/mK,热膨胀系数11.5±1×10-6/K,抗拉强度≥180MPa;(3)70%硅/铝:密度2.43g/cm3,热导率≥110W/mK,热膨胀系数7.5±1×10-6/K,抗拉强度≥130MPa。   20、苯基硅橡胶    苯基含量5~50%;分子量40~70万 g/mol;挥发份≤ 2%。   21、有机硅无溶剂浸渍树脂    固化厚层耐高低温(-45℃ 30min~+155℃ 30min) 冲击性能,不开裂;牵引电机组用线棒耐高低温(-45℃ 30min~+155℃ 30min)冲击性能,不开裂;浸渍树脂绝缘性能:电气强度(常态)≥24MV/m, 体积电阻率(常态) ≥1×1014Ω·m, 介质损耗因数(常态≤1.0,浸渍树脂贮存稳定性24h(闭口法, 100±2℃,增长倍数),≤1 倍,浸渍树脂粘结强度(裸铝线)≥50N。22、聚硼硅氧烷改性聚氨酯材料    密度0.45~0.5kg/m3, 撕裂强度0.9~1.5N/mm,拉伸强度≥1.4MPa,断裂伸长率180~300%,压缩强度 140~300kPa,抗冲击防护性能level2。  23、有机硅透明胶及有机硅封胶    (1)有机硅液态光学透明胶(LOCA):混合粘度 500~100000mPa·s可适用于刮涂、点胶、狭缝涂布、灌胶等工艺。折射率1.405±0.1,透光率≥99%, 黄色指数≤0.3,雾度≤0.2%,玻璃对玻璃十字拉拔粘接力≥0.4MPa。可靠性测试需通过UV老化测试、 高低温冲击测试、 高温老化、 低温老化、 高温高湿老化;样品经可靠性测试后光学片(200μm)黄变值Δb≤0.3,雾度≤0.4,透过率≥99%,十字拉拔粘接力≥0.3MPa;(2)多功能电磁屏蔽导热绝缘灌双组份有机硅封胶:热导率≥3.0W/(m·K),介电强度≥15KV/mm,粘度≤35Pa·s,电磁屏蔽性能大于10dB,抗张强度≥ 2.0 MPa,固化时间≤8 h,固化温度≤60℃。   24、聚碳硅烷和聚甲基硅烷    (1) 固态聚碳硅烷:软化点180~240℃,熔程≤30℃,氧含量≤0.7%,数均分子量1000~2000,分散度≤4.0Mw/Mn,陶瓷产率(900℃,惰性气氛) ≥52%;(2)液态聚碳硅烷:粘度(25℃)≤60mPa·s, 陶瓷产率(900℃,惰气)≥55%, 裂解产物氧含量≤2.5%, 裂解产物硅含量62%±2%,裂解产物碳含量 29.3±3.5;(3) 聚甲基硅烷:密度0.9~1g/cm3,900℃残重≥50%, 数均分子量600~1500, 分散度≤3Mw/Mn, 粘度:800~2000mPa·s。    25、3D打印有机硅材料    

硬度20~80ShoreA,拉伸强度≥4MPa,撕裂强度≥7N/mm,断裂伸长率≥70%。    


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