拜登心都碎了，围堵中国彻底失败！中国攻破光刻机核心技术，外媒：没想到这么快

自从1949年10月1日，伟大领袖毛主席站在天安门城楼上庄严宣布中华人民共和国成立的那一刻起，中国人民就真的站起来了！中国人民从此再也不需要向西方列强卑躬屈膝，仰人鼻息。

中国人民万众一心，团结一致，历经了70多年的努力奋斗，终于迎来了经济和科技的大发展、大繁荣，今天的中国已经崛起，成为世界第二大经济体和科技强国，如今中国人民正在为了实现中华民族的伟大复兴而继续努力奋斗。

但是，帝国主义一直虎视眈眈，亡我之心不死，时刻都想着要扼杀我们伟大的社会主义祖国。尤其是美国，仗着全球第一超级大国的霸主地位，到处散布中国威胁论，恶意炒作抹黑中国，绞尽脑汁不择手段对中国进行遏制和打压。

近段时间以来，美国更是变本加厉，对中国采取了极为严厉的芯片封锁战，妄图将中国芯片发展置于死地。自己对中国采取极限施压也就算了，而且还拉上日本、荷兰，结成三方芯片联盟，共同对付中国。这两天，又借流浪气球事件大肆抹黑中国，还将6家中国企业列入了制裁清单。

老美这一系列恶行，对于中国芯片的发展来说，影响不可谓不大。但是，他不知道的是，这样的极限打压反而让越来越多的中国人看清楚了老美的本质，让我们彻底丢掉了幻想，真正地沉下心来搞自主研发。光刻机不让买ASML和尼康佳能的，那我们就自己造。

看到这里，可能很多人都会觉得我是在说大话，光刻机那么复杂，自己造谈何容易，你来造一个我看看？没错，光刻机确实够复杂，被称为“人类最精密复杂的机器”，我也确实没那个本事造出来。但是它终归是人造出来的，ASML能造出来，为什么我们就不能呢？造出来只是时间问题！

要知道，当今世界上能制造光刻机的厂商中，中国已经可以排到老三的位置了。老大是荷兰的ASML；老二是日本的尼康和佳能，老三就是中国的上海微电子了。

目前上海微电子的90nm光刻机已经可以实现量产，而且第一台光刻机已经交付昆山同兴达投入生产了，接下来正在加紧攻关28nm光刻机，据说已经到了最后的攻坚阶段。

所以说，我们不是造不出来光刻机，而是短时间内难以造出高端光刻机。此前我也一直这么认为，但是最近的两个好消息传来，我彻底被打脸了！

实际上，我国对光刻机技术的研究一直都非常重视，包括中科院等科研院所以及各大高校，一直都保持着对光刻机的高强度研发。

就在近日，国内突然传出了两个重磅好消息，均是来自哈工大。一个是哈工大成功自主研发高速超精密激光干涉仪，可以应用于350nm至28nm工艺的光刻机样机集成研制和性能测试。这意味着什么？

上文提到，上海微电子正在研发的28nmDUV光刻机之所以迟迟没有完成，主要就是因为光源问题还没有找到解决方案。不过，随着哈工大这一项新成果的研发成功，相信用不了多久28nm光刻机就可以横空出世了！同时，也意味着西方绞尽脑汁打造的光源技术壁垒被彻底打破。

另一个好消息，据哈工大研发团队负责人介绍，哈工大还攻克了另外一项关键技术，那就是EUV激光光源，而且是和ASML所采用的几乎是同级别的。

了解光刻机的朋友都知道，EUV光刻机有三大核心技术，分别是双工件台系统、物镜和激光光源。前两项技术中科院等机构此前已经成功突破并实现了国产化，如今再加上EUV激光光源的突破，可以说，我们通过这三项核心技术的国产化已经搭建出了光刻机的主体框架，剩下的就是EUV光刻机各种各样的精密元器件，这些都是外围的东西，只需想办法解决供应链和组装问题就可以了。

这一次对光刻机核心技术的突破来得确实有点快，这让老美、日本、荷兰都猝不及防，始料未及。记得曾经ASML还大言不惭地说，就算把图纸送给中国也造不出光刻机，现在看来ASML已经被啪啪打脸了！拜登得知后，心都要碎了！就连外媒也惊呆了，纷纷表示：真没想到来得这么快！

当然，我们也不能过于乐观，盲目自信是成功的大敌！因为现在我们国产的光刻机水平与荷兰日本还有相当大的差距，还远没有到庆祝的时候，仍需要沉下心来，脚踏实地继续努力。借用孙中山先生的话说，就是：

革命尚未成功，同志仍需努力！

但至少我们用事实证明了，中国芯片产业的发展是堵不住的，也是杀不死的。这两个好消息也直接宣告了老美纠集小弟共同围堵中国的计划彻底失败！

作者简介：隔壁家老王。此老王非彼老王，大家请勿多想！理工男一枚，资深科技爱好者。擅长科技类爆文写作，语言风趣，言辞犀利。愿每天与您共同见证中国科技发展！本文来源：隔壁黑科技（ID：gebiblack），转载授权请联系作者隔壁家老王（微信号Ai4K5G）或在隔壁黑科技公众号后台留言。