百花齐放 春暖花开

遵循价值规律，深掘成长逻辑。前面《热门赛道碳中和，全球风塔龙头业绩大超预期！》一文有聊到中盘股的低估值机会。当前国内外流动性收紧、利率上行的背景下，各行业龙头公司由于估值过高，在本轮调整中下跌最为显著，相对低估值的中盘股则业绩确定性较高，行业景气度较高的中盘股比较受到市场的关注，从均值回归和投资性价比的角度，当下布局中盘股的胜率更高。

行业深度专题系列之：大消费行业深度研究

研究背景：光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤

光刻是半导体器件制造的最核心步骤，直接决定集成电路的性能和良率。光刻机的核心工艺指标包括：分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等。主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术。

王牌解读：光刻设备均具有高技术附加值,毛利率超过50%

成熟工艺领域为主，国内光刻设备市场广阔。中国大陆以成熟制程为主的半导体产线不断扩产，产生了大量光刻设备的需求。2021年ASML有高达27.4亿欧元的营收来自中国大陆（其全球第三大市场）；全球光刻设备市场规模超180亿美元，显影涂胶设备市场超30亿美元。国产光刻曝光设备尚处于实验阶段；显影涂胶设备已覆盖浸没式ArFi工艺节点，突破动能强劲。

※萝卜团长为您划本篇研报的重点

赛道细分：光刻机上游零部件市场有待发掘

光刻机的运行需光源、照明、掩膜台、物镜、工件台等多个精密系统组合工作，全球光刻零件市场至少约70亿美元（按50%毛利率推算）。相比其他半导体零件，光刻机零件单个价值量高，技术难度大。贸易限制导致海外供应链风险剧增，国内光学企业成为不二之选，技术能力与对应产品的盈利能力有望加速成长。综述，行业研究梳理的一条备选主线：① 光刻配套设备与零件方面的苏大维格、茂莱光学、芯源微、精测电子、盛美上海、美埃科技、炬光科技、福晶科技等。

风险提示

半导体行业景气度下滑，光刻设备需求不及预期，贸易保护主义因素导致国内晶圆厂扩产放缓，光刻设备与组件技术难度大，相关研发进度可能慢于预期的风险。

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