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美国断供芯片,俄罗斯决定从头开造光刻机!

芯师爷 2022-09-21

The following article is from 量子位 Author 关注前沿科技

作者:杨净 明敏
来源:量子位(QbitAI)
被美国全方位芯片制裁后,俄罗斯竟然要开造先进制程光刻机了?

(前情回顾:突发!俄罗斯最大芯片制造商遭美国制裁

是的,就是那个芯片制造中最最最核心的设备(甚至没有之一),全球仅一家公司ASML有能力生产最先进EUV级别,一台能卖好几亿元、核心技术被美国垄断的光刻机

而且,这次俄罗斯的计划,看起来有点像那么回事——

有人、有钱、有目标。

人,项目由有着苏联硅谷中心之称、以微电子专业见长的俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)承接。

钱,首期投资6.7亿卢布资金。

目标,挑战当前最先进的EUV(极紫外)级别

只能看懂一个28nm

但即便如此,因为制造光刻机登天之难、以及俄罗斯的资源储备,网友们对这个消息并不太信:

确定不是个玩笑?!


巧的是,就在这消息放出前一天,俄罗斯最大芯片制造商Mikron被美国制裁。更早之前,俄罗斯为数不多的其他几家芯片厂也已经全方位被制裁。

所以现在的俄罗斯芯片,到底什么水平?真的能有底气搞出先进制程光刻机吗?

无掩膜X射线光刻机?

我们先来看看计划本身的难度如何。

据俄媒报道,俄罗斯工贸部委托MIET开发“一种无掩膜X射线光刻机”,跟日常我们提到的EUV光刻机还有点不同。

首先的不同在于光源的选择

一种是极紫外光线,波长在13.5nm;而X射线波长介于0.01nm到10nm之间。

按照现有的常见思路,光刻机是特定波长的光透过用来放大的掩膜,再通过透镜的缩小,将集成电路图精确“投影”在硅片上。

为了精确“投影”,光刻机需要实现极高的曝光分辨率,以及极高的重复定位精度。

前者最有效的方式之一,就是改变光源的波长。

根据光学上的瑞利判据(Rayleigh Criterion),一个光学系统能够分辨的尺寸正比于光的波长。

因此,理论上以及从光刻机历来发展(波长变得越来越短)来看,X射线光刻机显然要比EUV光刻机更好更先进。

但因为它的穿透性太强,用普通透镜无法进行放大和缩小,因而现阶段无法实现投影光刻。

当前应用更多是在于直写光刻,这也是本次俄罗斯计划的选择——无掩膜。

这种方式其实很早就有了,就是直接用强激光束将所需电路一点点刻出来。

这个效率着实有点低,要想刻出纳米级集成电路,不知要等到猴年马月。

至于以EUV为代表的投影光刻,他们认为成本高昂和工艺复杂,仅在量产方面具有竞争力,因此只适用于英特尔、三星、台积电等这种少数的全球企业。

带有X射线反射系数控制的无掩模 X 射线光刻安装方案

这样看来,无掩膜光刻本身并不难,难就难在X射线工艺以及效率的提升上

但当前全球尚且还没有任何一家机构能够解决这个问题。这也是他们提出这项计划的原因。

按照计划,他们将完成对主要技术解决方案的验证——基于动态掩模模型的制造和两项控制实验研究。

最早于今年11月开发动态掩膜的技术和模型,以及原型光刻机的技术规范和可行性研究,工艺要达到28nm及以上。

带有 X 射线透射率控制的无掩模 X 射线光刻安装方案

除此之外,官方没有透露该计划的更多细节。

“是全世界都在帮荷兰ASML”

看完了计划本身,也就多少能理解为什么更多人依然疑问满满:

俄罗斯造光刻机,这事儿到底靠谱吗?

毕竟俄罗斯有很多高科技,总是雷声大雨点小……

不过也有人表示,俄罗斯的黑科技点不亮,难点在于缺钱、缺工业基础,理论方面还真的不一定落后。

这次光刻机研发计划,其相关研究最早能追溯到上世纪80年代。当时他们就已经在研究制造光源了。

1984年,泽列诺格勒科学中心受到政府指派,开始研发同步辐射加速器。

这个研究所,来头可不小。它后来被并入大名鼎鼎的库尔恰托夫研究所,苏联第一颗原子弹、第一颗氢弹、欧洲第一座原子反应堆、世界上第一作原子能发电站,都是从这个研究所走出来的。

但好景不长,这台加速器的研究在开展4年后就暂时被中止,直到2002年才再次试运行。

现在,俄罗斯打算基于这些技术积累,围绕这台加速器专门建立一个技术中心,并预计在2023年正式投入使用。

至于无掩膜光刻,他们一开始其实并没有选择这一路径,甚至还一度与ASML平齐。

早在2010年,ASML出货第一台预生产的EUV光刻机时,俄罗斯一个物理研究所IPM(RAS)也在开发EUV的系统及元件,以及装置原型的搭建。

其中开发人员还提出了辐射源设计的原始解决方案,部分还应用到了ASML光刻机上。

然鹅,这个项目在布局阶段就结束了。

RAS首席研究员、苏联国家奖获得者、多层X射线光学系主任Salashchenko Nikolay透露了原因:

一个国家无法单独拉动这项工作。而全世界都在帮助荷兰(ASML在荷兰) 

于是,他们就开始寻找其他路径,在无掩膜式光刻机上迭代工艺就是其中一种。

之所以让MIET承接,是因为此前MIET跟一些机构合作中,在无掩膜EUV光刻机上有过研究进展。

2002年,MIET中主要从事纳米电子器件研究的研究中心成立。

研究领域覆盖X射线器件、微机电系统和纳机电系统——这些技术都与研发光刻机密切相关。

并且已经开展了部分研究,比如“基于微聚焦X射线管列阵的软X射线源研制,适用于10nm无掩膜光刻机”,就是其中之一。

这项研究由RAS微观结构物理研究所的Nikolay Chkhalo教授牵头。

他目前是该研究所的实验室主任,发表论文200多篇,主要研究领域为X射线光学、光学干涉测量等。

综上可见,从理论基础这一角度来看,俄罗斯搞光刻机这事儿也不能说完全不靠谱

不过值得一提的是,在俄媒最近的报道中也直言,光刻机计划晚了15年。

如果这一计划在15年前启动,或许俄罗斯现在不会面临如此大的微电子技术威胁了


最大芯片制造商只能做公交卡芯片

值得注意的是,就在这消息大范围传开的前夕,美国财政部宣布冻结俄罗斯21家实体企业、13个人的在美资产

其中一家芯片厂公司进入大家的视野。

Mikron俄罗斯最大的芯片制造商、微电子制造商和出口商。而这也就意味着,俄罗斯芯片厂目前几乎已被全线制裁

因此现在宣布这项光刻机计划一方面是给俄罗斯国内注入一场强心剂。

另一方面,从现有的俄罗斯芯片水平来看,更有迫在眉睫之势。

以Mikron为例,就可见一斑。

从官网给出的产品目录中可以看到,该公司可实现最高65nm工艺,主营银行卡、公交卡之类的RFID以及电源管理芯片。

还创下了不少个第一:180/90/65nm工艺第一制造商、用于身份证件的芯片模块第一制造商、第一出口商,占俄罗斯微电子产品出口的54%。

这家公司的历史,可以追溯到前苏联——上个世纪六十年的分子电子研究所(NIME)。

当时,微电子技术并在热火朝天的发展。苏联国家技术委员会意识到建设微电子产业的必要性,开始大举组织研究所和工厂。

NIME就是其中之一。

不到两年时间(1966年),在实验车间生产的微电路产量就达到了10万片。

随后在第二年,依照政府命令,Mikron工厂从研究所中脱胎出来,致力于生产集成电路。

当时诸多技术均属于国内首创,比如砷化镓微电路平面技术、发射极耦合逻辑的IC晶体、大规模使用的数值和模拟集成电路……

1970年,Mikron已经为各个行业制造了超350万个微电路供应,之后还陆续用在国防、超级计算机等领域。

在整个半导体行业中,苏联的微电子技术在全球排名第三,仅次于美国和日本。可以说,这时候的Mikron乘着时代之风快速前进。

不过,这种势头很快就因为苏联解体戛然而止——几乎所有的苏联计算机制造商都停止了运营,只有少数公司通过外国组件/技术转让得以幸存。

Mikron就是其中一个。

2006年,Mikron开始引入海外技术——意法半导体技术转让,使其具备生产180nm芯片的能力。并于2007年开始生产180nmEEPROM的集成电路。

随即,Mikron就开始生产接触式智能卡的芯片模块,很快就掌握了RFID交通卡的全流程生产,并开始为莫斯科地铁站供应。

同年,它还开始为电信行业生产SIM卡。

或许是尝到了甜头,Mikron再度与意法半导体展开技术转让合作。

据当时《半导体国际》报道,公司有意每年更新一代工艺,计划于2008年和2009年分别推出130nm和90nm的工艺。

不过据官网记载,Mikron仅在2009年实现了在200毫米晶圆上生产设计90nm工艺的集成电路。

在2012年才正式启动90nm微电子产品的生产。

自此,俄罗斯成为全球第八个拥有该技术的国家。相较于西方,已经远远落后了。

这时候,俄政府开始意识到了微电子产业的重要性。

先是制定了一众产业发展战略《2013-2025年电子工业发展规划》和《国防工业综合体发展规划》等,还积极采取一系列举措,比如尽可能使用国产电子产品,开发CPU民用和军用两条线等。

Mikron也相应更改了路线,开始致力于自主研发180-90nm国产技术和独特产品,并创造新技术,包括65nm-45nm水平。

2014年,美国经济制裁(包括对敏感技术行业的打击)让原本脆弱的俄罗斯芯片制造雪上加霜。

即便在2015年,Mikron还勉强完成了65nm工艺的开发。

但之后就再也没有传来工艺制程迭代的音讯。

如今从规模上看,Mikron业务辐射全球,作为俄罗斯最大芯片制造厂确实不假。

不过能做的产品,早已定型——

运输及门禁RFID、物联网数据保护微控制器、智能水表等。

俄罗斯芯片厂几乎已被全线制裁

前文提到,俄罗斯芯片制造商们,已经被美国制裁得差不多了。

不仅是最大芯片制造商Mikron,另一家制造商Angstrem-T甚至已经破产了一次。

还有设计厂商Baikal Electronics、MCST等等都被制裁折腾了个够呛,在“实体名单”里进进出出……

由这些公司构建起的俄罗斯半导体产业现如今究竟怎么个水平,又处于何种境况,我们也借此机会展开看看。

Baikal Electronics

首先来看看号称是俄罗斯技术最先进的芯片设计厂商——Baikal Electronics。

在最新一轮制裁名单中,其母公司T-Platforms赫然在列

Baikal Electronics能达到的制程为28nm,它起初基于MIPS架构,这两年转向ARM,支持运行俄国产操作系统Astra Linux。

其最近发布的处理器为Baikal-S,拥有48个核心,基准频率2.0GHz,最高加速2.5GHz,热设计功耗为120W,同时还整合封装了一颗自研的RISC-V架构协处理器。

而除了母公司被制裁,Baikal Electronics还要面临芯片无法出货的问题。

一直以来,Baikal Electronics的芯片都是由台积电代工。

在美国发布最新一轮制裁名单前,台积电方面已经表示,将不再为俄罗斯公司生产芯片,首当其冲的便是Baikal Electronics。

Angstrem-T

同样跟Mikron有着悠久历史的芯片制造厂Angstrem-T,在2017年就遭到过制裁,并受到重创。

当时,Angstrem-T能拿出的最高制程为250nm。作为对比,这一年三星已经在量产7nm芯片了。

因受到制裁影响,Angstrem-T陷入债务危机,于2018年被俄罗斯国家开发银行VEB.RF收购;2019年,正式宣告破产重组。

但就在去年,这家公司传来一点起死回生的迹象。据报道称,他们已高薪聘请十数位专家帮助Angstrem-T重启产线。而且还计划从AMD采购设备,用来生产130-90nm的芯片。

MCST

最后介绍的是芯片设计厂商MCST (莫斯科SPARC技术中心,Moscow Center for SPARC Technologies),成立于1992年,前身是列别捷夫精密机械与计算机工程研究所。

其旗下Elbrus处理器包含两条产品线,一条面向民用,架构基于Elbrus-2000架构(俄罗斯版本X86);另一条面向军用,架构基于SPARC,同样由台积电代工。

目前产品能达到的最高制程工艺为16nm

但该系列芯片在实测中表现不佳,去年年底时,俄罗斯最大银行Sber技术部门在测试Elbrus-8C后给出的评价是:

内存不足、内存速度慢、核心数量少、频率低、完全不满足需求。

已有7万IT人员出走俄罗斯

最后再回到现在,截至3月31日,美方公开的最新制裁名单中,涉及21个实体企业、13名个人。

当天白宫方面还表示,未来几天将会把120个俄罗斯和白俄罗斯实体加入名单,范围将扩大到航天航空、船舶和电子行业。

而从目前看来,第一波制裁造成的影响,已经远远超出芯片产业。

俄罗斯版谷歌Yandex就是代表之一。其旗下业务包括搜索引擎、云服务、网约车等等。

据报道,受到进出口限制,Yandex将会在未来1-18个月内面临服务器硬件短缺情况,自动驾驶业务也将遭受严重打击

为此,它们正在寻求重组以降低被制裁风险。

同时还在和俄罗斯境内社交网络最大运营商VK进行谈判,打算出售其新闻部门、Zen社交平台,或者剥离自动驾驶业务。

更为深入的影响,还体现在人才上

据报道,从2月底到现在,已经有7万名IT技术人员离开了俄罗斯

俄罗斯通讯协会方面也承认了这一事实,并表示在4月时,离境的IT人员数量可能会达到10万人。

不过俄罗斯官方方面也一直有所应对。

除了前文提到的投入重金研发光刻机外,最近路透社报道,俄罗斯正在转向中国的微芯片制造商寻求供应,主要是为了解决其本土MIR支付系统相关的银行卡需求。


参考链接:
[1]https://www.reuters.com/technology/russia-turns-china-microchips-in-demand-domestic-bank-cards-2022-04-05/
[2]https://www.datacenterdynamics.com/en/news/intel-and-amd-halt-chip-sales-to-russia-tsmc-joins-in-on-sanctions/
[3]https://www.bloomberg.com/news/articles/2022-03-30/russia-s-internet-giant-may-run-out-of-tech-it-needs-in-a-year
[4]https://en.wikipedia.org/wiki/Angstrem_(company))
[5]https://en.wikipedia.org/wiki/National_Research_University_of_Electronic_Technology
[6]http://ipmras.ru/en/structure/people/salashch
[7]https://www.zelenograd.ru/hitech/v-miete-razrabotayut-koncepciyu-bezmasochnogo-fotolitografa-dlya-vypuska-mikroshem/
[8]https://www.zelenograd.ru/hitech/v-zelenogradskom-nanocentre-startovala-razrabotka-otechestvennogo-fotolitograficheskogo-oborudovaniya/
[9]http://www.kkg.com.cn/shownews.asp?newsid=2955
[10]https://fanpusci.blog.caixin.com/archives/253286
[11]https://stimul.online/articles/science-and-technology/fotolitografiya-s-pyatnadtsatiletnim-opozdaniem/


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