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华南理工大学於黄忠教授团队CEJ:含氟苯乙酸偶极分子调节ITO功函数以及钙钛矿薄膜形貌制备高效稳定的无空穴传输层钙钛矿太阳能电池

化学与材料科学 化学与材料科学 2022-05-05

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近期,华南理工大学於黄忠教授团队在探索含氟苯乙酸偶极分子在调节ITO功函数以及钙钛矿薄膜形貌制备无空穴传输层钙钛矿太阳能电池方面取得进展,探索了具有不同偶极矩的含氟苯乙酸偶极分子调节ITO功函数的机理,丰富了无空穴传输层器件中ITO与钙钛矿层界面的载流子传输机理以及能带模型。相关成果以标题为“Reducing energy loss via adjusting the anode work function and perovskite layer morphology for the efficient and stable hole transporting layer-free perovskite solar cells”(10.1016/j.cej.2021.133948)发表在Chemical Engineering Journal。华南理工大学博士研究生张健开为论文第一作者。此研究得到国家自然科学基金等资助支持。

近年,反式结构的无空穴传输层钙钛矿太阳能电池受到科研工作者的关注,因为这种结构的器件不需要使用Spiro-OMeTAD, PTAA等价格昂贵的空穴传输材料且可在较低温度条件下(100℃)制备得到。但是,由于这种结构的器件不存在空穴传输层,ITO电极与钙钛矿层之间存在的较大能级差限制了其光电转换效率。此外,ITO电极表面的羟基也会诱导钙钛矿吸光层发生分解,从而加速了器件效率的衰退。基于此,本工作中引入三种具有不同偶极矩的偶极分子,包括对氟苯乙酸(FA,偶极矩:1.76 D)、4-(三氟甲基)苯乙酸(TFA,偶极矩:2.88 D)和3,5-双(三氟甲基)苯乙酸(2TFA, 偶极矩:3.69 D,这些偶极分子通过与ITO表面的羟基键合产生电子转移并形成表面偶极子,从而改变ITO的功函数。从图1(a-b)中Sn 3d和In 3d的XPS光谱可见,经过偶极分子优化后,Sn 3d和In 3d的峰位均向高结合能方向移动,表明Sn和In原子附近电子密度的下降。这证明这些偶极分子成功结合在ITO表面,并且从ITO中得到电子。通过UPS测试修饰前后的ITO发现,经过偶极分子FATFA和2TFA修饰后,ITO的功函数从4.43 eV分别提升到4.64、4.89和5.06 eV,如图1(c-d)所示。ITO电极功函数的提高有利于空穴从钙钛矿吸光层迁移到电极上,从而提高器件的空穴收集效率。
 


图1 不同偶极分子修饰前后ITO的Sn 3d(a)、In 3d(b)的XPS光谱。(c-d)不同偶极分子修饰前后ITO的UPS测试。
    
载流子在ITO/钙钛矿界面处的传输机理如图2所示,经过FATFA和2TFA偶极分子优化后,界面处的电子迁移势垒从原始的0.51 eV增加到0.72、0.97和1.14 eV,同时空穴迁移势垒从原始的1.09 eV降低到0.88、0.63和0.46 eV。偶极分子优化后更高的电子迁移势垒有利于阻挡电子从钙钛矿吸光层转移到ITO电极,同时更低的空穴迁移势垒有利于提高空穴从钙钛矿吸光层转移到ITO电极的迁移效率。与此同时,经过偶极分子优化后,界面处形成向上的能带弯曲,这使得空穴载流子的提取效率得到提高,从而降低此界面的能量损失。
 


图2 载流子在ITO/钙钛矿界面的传输机理分析。

图3为偶极分子优化前后ITO的接触角测试以及生长在不同基底上钙钛矿薄膜的SEM表面以及截面形貌图。偶极分子修饰后ITO表面疏水性增加,有利于降低钙钛矿成核密度,从而生长出晶粒尺寸更大的钙钛矿薄膜。

 

图3 (a-d)偶极分子优化前后ITO的接触角测试。(e-h)生长在不同基底上钙钛矿薄膜的表面形貌图。(i-l)偶极分子优化前后样品的截面形貌图。
 

XRD测试进一步证明了偶极分子优化后钙钛矿薄膜的结晶性增加,偶极分子优化后钙钛矿的PL峰强度降低了,瞬态PL测试结果显示,经过偶极分子优化后载流子寿命均降低了,表明这些偶极分子的修饰可有效提高载流子在ITO/钙钛矿界面的传输效率。SCLC测试显示偶极分子优化后钙钛矿薄膜的缺陷态密度从原始的1.51 × 1016 cm-3 降低到7.98 × 1015, 6.60 × 1015 5.73 × 1015 cm-3

 

 
图4 生长在不同基底上钙钛矿薄膜的XRD(a)、PL(b)、瞬态PL测试(c)。(d)SCLC测试钙钛矿薄膜缺陷态密度。
 
    经过FATFA和2TFA偶极分子优化后,器件的效率从14.94%提升到16.99%、18.55%和20.19%,如图5(b-c)所示。同时,器件的开路电压也有明显提升(图5d)。经过优化后的器件的外量子效率明显提高,有利于提高器件的短路电流密度(图5e)。优化后器件的暗电流降低了,证明ITO/钙钛矿界面的载流子聚集和复合现象得到抑制(图5f)。
 


图5 (a)器件中载流子迁移示意图。(b)优化前后器件的电流-电压曲线图。(c-d)不同器件的效率以及开路电压统计图。不同器件的外量子效率图(e)以及暗电流图(f)。
 
电容-电压测试显示,经过偶极分子优化后器件的电容明显降低,证明ITO/钙钛矿界面处载流子堆积现象得到抑制(图6a)。优化后器件内建电场的增大有利于提高载流子的分离效率(图6b)。优化后的器件展示出良好的稳定性(图6c-d)。优化后的柔性器件与大面积器件效率均有明显提升(图6e-f)。


原文链接

https://doi.org/10.1016/j.cej.2021.133948


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