A钙钛矿埋底界面钝化剂的选择问题在本研究中,我们首先对不同程度氨基取代的胍盐酸盐进行了DFT计算,以便比较计算结果与实际器件性能之间的关系。分析发现,影响器件中埋底界面修饰效果的主要因素为修饰剂与电子传输层氧化锡的结合能。结果表明,修饰剂与氧化锡的结合能的变化趋势与器件的缺陷密度呈负相关性,与器件的光电转换效率表现出正相关性。▲Figure 1. (a) DFT calculation models of Gua, Agu, Dgu, and Tgu on a SnO2 film. (b) DFT calculation models of Gua, Agu, Dgu, and Tgu on a perovskite film. (c) Corresponding binding energies calculated by DFT. (d) VTFL values of control and AGs-modified devices estimated by SCLC characterizations. (e) Representative J−V curves and (f) PCE statistical data of a control device and AGs-modified devices. B 影响修饰剂与氧化锡结合能变化的因素在文中XPS的结果中反映出,本文所设计的修饰剂结构中,被质子化的亚氨基(C=NH2+)在于氧化锡结合过程中起主要做作用。那么本文设计的不同程度氨基取代的胍盐中,随着氨基取代的增加会增加亚氨基的空间位阻,降低其作用能力,但是氨基也可以作为与氧化锡的结合位点,氨基取代的增加会增加作用位点的数目,因此在两种对结合能力相反的影响因素下,结合能随着氨基取代的增加呈现出先增后减的趋势,在氨基胍盐酸盐上获得了最大值。▲Figure 2. Chemical Structures of Guanidinium Passivators in This Work C 修饰剂的作用机理钙钛矿的埋底界面由于其特殊性,作用机理也分为与氧化锡的作用机理和钙钛矿的作用机理,与氧化锡的主要是影响氧化锡的能级,表面的深能级缺陷密度等,对钙钛矿的影响主要是影响了钙钛矿的结晶状态,文中通过XPS、GIWAX、XRD、SEM、AFM、UPS等进行了详细的对比和说明,这里不再赘述。 04 总结与展望