行业数据|全球半导体制造CVD设备供应商列表(2022)

前一阵子，国内半导体设备制造商拓荆科技正式IPO，登陆A股。他们是一家专业生产半导体化学化学气相淀积设备（CVD）的供应商，产品主要有PECVD、SACVD和ALD设备

实际上，CVD设备的种类很多，我也正好收集了全球主要CVD设备供应商的信息，所以这次蹭个热度把数据整理出来供大家参考（之前发布过一版，这次略有调整和更新）

由于个人能力资源有限，内容可能存在一定错漏，麻烦大家理解

有任何疑问或者修改建议，欢迎大家和我微信联系

以下是CVD/ALD设备相关名词解释：

化学气相淀积	CVD	Chemical Vapor Deposition
常压CVD	APCVD	Atmospheric pressure CVD
准常压CVD	SACVD	Sub-atmospheric CVD
低压CVD	LPCVD	Low Pressure CVD
超低压CVD	UHVCVD	Ultra-High Vacuum CVD
等离子增强CVD	PECVD	Plasma Enhanced CVD
高密度等离子CVD	HDPCVD	High-density Plasma CVD
金属有机CVD	MOCVD	Metalorganic CVD
等离子辅助MOCVD	PA-MOCVD	Plasma Activated Metalorganic CVD
混合物理化学气相沉积	HPCVD	Hybrid Physical–chemical Vapor Deposition
电感耦合等离子CVD	ICPCVD	Inductively Coupled Plasma CVD
快速热处理CVD	RTCVD	Rapid Thermal CVD
激光CVD	LCVD	Laser CVD
直接液体注入CVD/ALD	DLI-CVD/ALD	Direct Liquid Injection CVD/ALD
	FCVD	Flowable CVD
原子层沉积	ALD	Atomic-layer Deposition

其它参考数据：