扭亏为盈！国产替代加速！

周二沪指围绕3300点展开了激烈的争夺，盘中最高冲到3308点，然后就出现熟悉的跳水走势！

不过这一次比较好，A股在尾盘渐渐稳住了局势，并没有让恐慌情绪进一步扩散蔓延！并且，尾盘成功守住了3300点！

截至收盘，沪指涨0.49%报3306.52点，深成指涨0.12%报11968.6点，创业板指跌0.44%报2469.81点。北向资金净买入18.54亿元。

从盘面看，周二市场最大的亮点在于周期股，尤其是煤炭和有色板块一度拉升下，给市场带来新的提振。再看周期股，尤其是经历去年的调整之后，多数板块估值处于低位，在市场估值修复过程中，整体开始表现。当然，从历史经济周期的表现看，经济复苏前期的周期股，历来也有整体上行的表现。

因此，结合最近两日行情，在注册制重大改革的背景下，市场风格迎来整体转向，春节以来的成长股占优势的格局有所改变。取而代之的，是以低估值为代表的大盘蓝筹股，当然低估值板块内部之间也存在转换。比如周一是大金融板块的发力，周二是资源股的发力，周三可能是其他低估品种的启动。

从中长期来看，A股市场整体的重心上移是大概率事件。要知道全面注册制对市场的影响是中长期的，当然对于蓝筹股特别是券商的提振也是最直接的。毕竟在注册制下，优胜劣汰是本质，市场资金仍然倾向于质地优良的品种，而这些品种又以蓝筹股为主，那些小盘股、品质较差的上市公司在未来会逐步被边缘化的概率将增加。所以，在资金的拥趸下，蓝筹股中长期重心整体上台阶或是大概率事件。

东莞证券表示，当前处于强经济复苏预期，但数据、政策真空期的阶段，市场博弈加剧，而且交投较为谨慎，再加上外围地缘政治紧张、美元边际走强，以及市场主线不明显，对A股市场有一定扰动。预计两会前政策预期和北向资金持续流入支撑A股市场走势，市场短线或延续震荡，不过中期有望逐步企稳反弹，春季躁动有望延续，关注北向资金流向、量能变化以及板块轮动。

今天给大家讲的是国内半导体薄膜沉积设备龙头——拓荆科技。

公司成立于 2010 年，前身为中科仪PECVD事业部，自成立始便聚焦半导体薄膜沉积设备的研发生产，次年2011年便出厂首台12英寸PECVD，得到中芯国际的通过验证。

经过不断研发发展，公司目前拥有等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三大核心产品。

这些“名词”或许大家不太了解，我们可以把它们理解为是薄膜沉积工艺的主要设备。

关于薄膜沉积工艺与设备

薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料，所沉积薄膜材料可以是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属，薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积。

该主流工艺就会用到上面提到的CVD（化学气相沉积）设备、PVD（物理气相沉积）设备、电镀设备和ALD（原子层沉积）设备。

CVD主要用于制备高纯、高性能固体薄膜。PECVD是CVD的一种，相比传统的CVD 设备，PECVD 设备在相对较低的反应温度下形成高致密度、高性能薄膜，不破坏已有薄膜和已形成的底层电路，实现更快的薄膜沉积速度。

SZCVD、ALD也隶属于 CVD 。

PVD 镀膜技术主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，相应的真空镀膜设备就有三种：真空蒸发镀膜机、 真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。

主流仍为溅射法，此应用下形成的薄膜附着力较强、薄膜质量较好、应用范围广，蒸镀以及离子镀方法应用较少。

从设备的工艺类别来看，PECVD应用占比达33%，位列第一，溅射PVD和ALD分别以19%和11%位列第二、第三，而SACVD属于新兴设备类型，占比较小，归于其他薄膜沉积设备类下。

2021年全球薄膜沉积设备市场规模达190亿美元，2025年有望突破340亿美元。

半导体产业的重要支撑

薄膜沉积设备与光刻设备、刻蚀设备并称集成电路前道生产工艺的三大核心设备，是半导体产业的重要支撑基础。

受全球通货膨胀及经济不确定性影响，2022年，全球半导体市场景气持续下行，众半导体头部厂商大幅削减22及23年资本开支。

半导体设备行业的核心增长驱动力是下游晶圆厂的资本开支，由于半导体行业的强周期属性，晶圆厂的扩产节奏及资本开支同样也呈现较强的周期性特征，带动半导体设备行业呈现一定的周期性。

其中，根据各公司Q3业绩会，台积电再度下修资本开支至360亿美元（前值为400亿美元）；英特尔下调本年度资本开支至250亿美元（前值为 270亿美元），并计划到2025年累计减少100亿美元资本开支。

综合晶圆前后道加工，以及封测设备来看，全球半导体设备市场中北美和日本则处于绝对的优势地位。

就晶圆处理设备而言，美国公司实力非常强劲，在2021全球半导体设备供应商前10 名中，美国公司占4席。

但近年来受到中美贸易摩擦影响，供应链安全问题日益凸显，中国系统厂商和本土设计厂纷纷转向本土代工厂，为其带来庞大市场需求。

因此，不同于全球半导体资本开支放缓趋势，本土晶圆厂产能仍持续扩张。

数据估计，2022年至2026年我国大陆将新增25座12英寸晶圆厂，总规划月产能合计超160万片。

在2023年，根据中芯国际及华虹业绩说明会，中芯国际仍保持相同资本开支强度。华虹由于美国出口管制影响，长江存储自主技术进展与量产能力将受阻碍，并可能推迟部分产线的建设。

对此，机构预测即使2023年中国大陆地区半导体设备资本开支下滑，但仍有望接近 200亿美元，2024年同比还会提升32.5%。

华泰证券还预计2023年中国内资晶圆厂合计产能（折合8寸）有望增长21%。

目前，本土半导体设备公司已进入多个细分领域，涵盖产品已涵盖半导体全产业链，包括清洗设备（盛美上海、北方华创、至纯科技）、氧化设备（屹唐股份、北方华创）、光刻设备（上海微）等等。

数据显示，21年中国已上市A股的半导体设备公司营收规模约为32亿美元，约占中国半导体设备销售额的12%。

但由于半导体设备行业本身的商业模式， 行业龙头通常会拥有较强的规模效应及用户粘性，故设备各细分赛道市场集中度较高，且大多被国际龙头垄断。国产替代仍处于早期。

就拿薄膜沉积设备为例，就CVD设备而言，全球AMAT、 LAM、TEL三足鼎立，合计占据市场70%份额，国内主要企业为拓荆科技、北方华创；ALD设备方面，ASM、TEL 寡头垄断市场，合计占据75%市场份额，国内设备厂商拓荆科技、北方华创、盛美上海均有布局，但占比较小。

今天之所以给大家讲拓荆科技，也是因为在这样垄断的条件下，公司能拥有一席地位，还是值得大家知道的。

公司核心竞争力分析

它的竞争优势主要在于：

1）坐拥中芯国际、长江存储大客户

拓荆科技主要客户均为国内主流晶圆厂，自2018年以来，中芯国际、长江存储、华虹集团公司均属于拓荆科技前五大客户之列。

分产品看，PECVD 主要客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储与万 国半导体，ALD 主要客户为 ICRD，SACVD主要客户为燕东微电子。

2）持续拓宽产品与工艺覆盖

公司此前的主要三大产品矩阵，曾助力公司打开34亿美元国内市场空间。

但公司并没有被限制住，其还在CVD细分领域不断丰富设备种类， 开发了高密度等离子增强化学气相沉积（HDPCVD）设备和紫外线固化处理（UV Cure）设备，并且均取得了客户订单。

公司还将推进Thermal ALD的研发，进一步完善产品布局。

近日，公司还设立半导体设备子公司，注册资本5亿。

经营范围包含半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；机械零件、零部件加工，机械零件、零部件销售等。股东信息显示，该公司由拓荆科技100%控股。

3）募投项目助力工艺突破

拓荆科技科创板上市募集资金净额为21.28亿元，其中10.00亿将被用于投资高端半导体扩产、先进半导体设备技术研发与改进等等，来提升公司在行业内的竞争力。

相比于代表性厂商北方华创、中微公司等公司，拓荆科技则为国内薄膜沉积设备龙头，专注于薄膜沉积设备的供应与精进。

4）业绩表现扭亏为盈

上个月，公司发布公告预计2022年实现营业收入16.5亿元至17.2亿元，同比增长117.69%至126.92%；

预计实现归属于上市公司股东的净利润3.3亿元至4亿元，同比增长381.85%至484.06%；预计实现扣非净利润1.6亿元至1.9亿元，同比实现扭亏为盈。

节选自：《薄膜沉积设备龙头进口替代加速》，华泰证券，2023年2月20日

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