扭亏为盈!国产替代加速!
周二沪指围绕3300点展开了激烈的争夺,盘中最高冲到3308点,然后就出现熟悉的跳水走势!
不过这一次比较好,A股在尾盘渐渐稳住了局势,并没有让恐慌情绪进一步扩散蔓延!并且,尾盘成功守住了3300点!
截至收盘,沪指涨0.49%报3306.52点,深成指涨0.12%报11968.6点,创业板指跌0.44%报2469.81点。北向资金净买入18.54亿元。
从盘面看,周二市场最大的亮点在于周期股,尤其是煤炭和有色板块一度拉升下,给市场带来新的提振。再看周期股,尤其是经历去年的调整之后,多数板块估值处于低位,在市场估值修复过程中,整体开始表现。当然,从历史经济周期的表现看,经济复苏前期的周期股,历来也有整体上行的表现。
因此,结合最近两日行情,在注册制重大改革的背景下,市场风格迎来整体转向,春节以来的成长股占优势的格局有所改变。取而代之的,是以低估值为代表的大盘蓝筹股,当然低估值板块内部之间也存在转换。比如周一是大金融板块的发力,周二是资源股的发力,周三可能是其他低估品种的启动。
从中长期来看,A股市场整体的重心上移是大概率事件。要知道全面注册制对市场的影响是中长期的,当然对于蓝筹股特别是券商的提振也是最直接的。毕竟在注册制下,优胜劣汰是本质,市场资金仍然倾向于质地优良的品种,而这些品种又以蓝筹股为主,那些小盘股、品质较差的上市公司在未来会逐步被边缘化的概率将增加。所以,在资金的拥趸下,蓝筹股中长期重心整体上台阶或是大概率事件。
东莞证券表示,当前处于强经济复苏预期,但数据、政策真空期的阶段,市场博弈加剧,而且交投较为谨慎,再加上外围地缘政治紧张、美元边际走强,以及市场主线不明显,对A股市场有一定扰动。预计两会前政策预期和北向资金持续流入支撑A股市场走势,市场短线或延续震荡,不过中期有望逐步企稳反弹,春季躁动有望延续,关注北向资金流向、量能变化以及板块轮动。
今天给大家讲的是国内半导体薄膜沉积设备龙头——拓荆科技。
公司成立于 2010 年,前身为中科仪PECVD事业部,自成立始便聚焦半导体薄膜沉积设备的研发生产,次年2011年便出厂首台12英寸PECVD,得到中芯国际的通过验证。
经过不断研发发展,公司目前拥有等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三大核心产品。
这些“名词”或许大家不太了解,我们可以把它们理解为是薄膜沉积工艺的主要设备。
关于薄膜沉积工艺与设备
薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料,所沉积薄膜材料可以是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属,薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积。
该主流工艺就会用到上面提到的CVD(化学气相沉积)设备、PVD(物理气相沉积)设备、电镀设备和ALD(原子层沉积)设备。
CVD主要用于制备高纯、高性能固体薄膜。PECVD是CVD的一种,相比传统的CVD 设备,PECVD 设备在相对较低的反应温度下形成高致密度、高性能薄膜,不破坏已有薄膜和已形成的底层电路,实现更快的薄膜沉积速度。
SZCVD、ALD也隶属于 CVD 。
PVD 镀膜技术主要分为三类:真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜,相应的真空镀膜设备就有三种:真空蒸发镀膜机、 真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
主流仍为溅射法,此应用下形成的薄膜附着力较强、薄膜质量较好、应用范围广,蒸镀以及离子镀方法应用较少。
从设备的工艺类别来看,PECVD应用占比达33%,位列第一,溅射PVD和ALD分别以19%和11%位列第二、第三,而SACVD属于新兴设备类型,占比较小,归于其他薄膜沉积设备类下。
2021年全球薄膜沉积设备市场规模达190亿美元,2025年有望突破340亿美元。
半导体产业的重要支撑
薄膜沉积设备与光刻设备、刻蚀设备并称集成电路前道生产工艺的三大核心设备,是半导体产业的重要支撑基础。
受全球通货膨胀及经济不确定性影响,2022年,全球半导体市场景气持续下行,众半导体头部厂商大幅削减22及23年资本开支。
半导体设备行业的核心增长驱动力是下游晶圆厂的资本开支,由于半导体行业的强周期属性,晶圆厂的扩产节奏及资本开支同样也呈现较强的周期性特征,带动半导体设备行业呈现一定的周期性。
其中,根据各公司Q3业绩会,台积电再度下修资本开支至360亿美元(前值为400亿美元);英特尔下调本年度资本开支至250亿美元(前值为 270亿美元),并计划到2025年累计减少100亿美元资本开支。
综合晶圆前后道加工,以及封测设备来看,全球半导体设备市场中北美和日本则处于绝对的优势地位。
就晶圆处理设备而言,美国公司实力非常强劲,在2021全球半导体设备供应商前10 名中,美国公司占4席。
但近年来受到中美贸易摩擦影响,供应链安全问题日益凸显,中国系统厂商和本土设计厂纷纷转向本土代工厂,为其带来庞大市场需求。
因此,不同于全球半导体资本开支放缓趋势,本土晶圆厂产能仍持续扩张。
数据估计,2022年至2026年我国大陆将新增25座12英寸晶圆厂,总规划月产能合计超160万片。
在2023年,根据中芯国际及华虹业绩说明会,中芯国际仍保持相同资本开支强度。华虹由于美国出口管制影响,长江存储自主技术进展与量产能力将受阻碍,并可能推迟部分产线的建设。
对此,机构预测即使2023年中国大陆地区半导体设备资本开支下滑,但仍有望接近 200亿美元,2024年同比还会提升32.5%。
华泰证券还预计2023年中国内资晶圆厂合计产能(折合8寸)有望增长21%。
目前,本土半导体设备公司已进入多个细分领域,涵盖产品已涵盖半导体全产业链,包括清洗设备(盛美上海、北方华创、至纯科技)、氧化设备(屹唐股份、北方华创)、光刻设备(上海微)等等。
数据显示,21年中国已上市A股的半导体设备公司营收规模约为32亿美元,约占中国半导体设备销售额的12%。
但由于半导体设备行业本身的商业模式, 行业龙头通常会拥有较强的规模效应及用户粘性,故设备各细分赛道市场集中度较高,且大多被国际龙头垄断。国产替代仍处于早期。
就拿薄膜沉积设备为例,就CVD设备而言,全球AMAT、 LAM、TEL三足鼎立,合计占据市场70%份额,国内主要企业为拓荆科技、北方华创;ALD设备方面,ASM、TEL 寡头垄断市场,合计占据75%市场份额,国内设备厂商拓荆科技、北方华创、盛美上海均有布局,但占比较小。
今天之所以给大家讲拓荆科技,也是因为在这样垄断的条件下,公司能拥有一席地位,还是值得大家知道的。
公司核心竞争力分析
它的竞争优势主要在于:
1)坐拥中芯国际、长江存储大客户
拓荆科技主要客户均为国内主流晶圆厂,自2018年以来,中芯国际、长江存储、华虹集团公司均属于拓荆科技前五大客户之列。
分产品看,PECVD 主要客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储与万 国半导体,ALD 主要客户为 ICRD,SACVD主要客户为燕东微电子。
2)持续拓宽产品与工艺覆盖
公司此前的主要三大产品矩阵,曾助力公司打开34亿美元国内市场空间。
但公司并没有被限制住,其还在CVD细分领域不断丰富设备种类, 开发了高密度等离子增强化学气相沉积(HDPCVD)设备和紫外线固化处理(UV Cure)设备,并且均取得了客户订单。
公司还将推进Thermal ALD的研发,进一步完善产品布局。
近日,公司还设立半导体设备子公司,注册资本5亿。
经营范围包含半导体器件专用设备制造;半导体器件专用设备销售;机械零件、零部件加工,机械零件、零部件销售等。股东信息显示,该公司由拓荆科技100%控股。
3)募投项目助力工艺突破
拓荆科技科创板上市募集资金净额为21.28亿元,其中10.00亿将被用于投资高端半导体扩产、先进半导体设备技术研发与改进等等,来提升公司在行业内的竞争力。
相比于代表性厂商北方华创、中微公司等公司,拓荆科技则为国内薄膜沉积设备龙头,专注于薄膜沉积设备的供应与精进。
4)业绩表现扭亏为盈
上个月,公司发布公告预计2022年实现营业收入16.5亿元至17.2亿元,同比增长117.69%至126.92%;
预计实现归属于上市公司股东的净利润3.3亿元至4亿元,同比增长381.85%至484.06%;预计实现扣非净利润1.6亿元至1.9亿元,同比实现扭亏为盈。
节选自:《薄膜沉积设备龙头进口替代加速》,华泰证券,2023年2月20日
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